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1. (WO2018198936) 低反射膜付き透明基板、光電変換装置、低反射膜付き透明基板の低反射膜を形成するための塗工液及び低反射膜付き透明基板の製造方法

Pub. No.:    WO/2018/198936    International Application No.:    PCT/JP2018/016161
Publication Date: Fri Nov 02 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Fri Apr 20 01:59:59 CEST 2018
IPC: C03C 17/25
G02B 1/111
H01L 31/0392
Applicants: NIPPON SHEET GLASS COMPANY, LIMITED
日本板硝子株式会社
Inventors: KOYO Mizuho
小用 瑞穂
NAKAZAWA Tatsuhiro
中澤 達洋
KAWAZU Mitsuhiro
河津 光宏
Title: 低反射膜付き透明基板、光電変換装置、低反射膜付き透明基板の低反射膜を形成するための塗工液及び低反射膜付き透明基板の製造方法
Abstract:
本発明の低反射膜付き透明基板は、透明基板と、透明基板の少なくとも一方の主表面に形成されている低反射膜とを含む。低反射膜は、中実な球状で平均粒径が80~150nmであるシリカ微粒子が、シリカを主成分とするバインダによって固定されてなる多孔質膜である。バインダはアルミニウム化合物をさらに含む。低反射膜における成分の含有率が、質量%表示で、シリカ微粒子55~70%、バインダにおけるシリカ25~40%、アルミニウム化合物をAl2O3に換算して0.1~1.5%、有機成分0.25~3%である。低反射膜の膜厚は80~800nmである。低反射膜が形成されていない状態の透明基板の波長域380~850nmにおける平均透過率に対する、低反射膜付き透明基板の該波長域における平均透過率の増分、として定義される透過率ゲインが、2.5%以上である。前記有機成分は、βケトエステル及びβジケトンからなる群から選択される少なくともいずれか1つを含む。