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1. (WO2018198698) 有機ELデバイス用基板、有機ELデバイスおよび有機ELデバイス用基板の製造方法

Pub. No.:    WO/2018/198698    International Application No.:    PCT/JP2018/014440
Publication Date: Fri Nov 02 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Thu Apr 05 01:59:59 CEST 2018
IPC: H05B 33/02
H01L 51/50
H05B 33/10
H05B 33/28
Applicants: OLED MATERIAL SOLUTIONS CO., LTD.
OLED Material Solutions株式会社
Inventors: YAMAZAKI Yasuo
山崎 康夫
KAJI Hironori
梶 弘典
KUBO Shosei
久保 勝誠
TABE Masashi
田部 昌志
SAKAMOTO Akihiko
坂本 明彦
Title: 有機ELデバイス用基板、有機ELデバイスおよび有機ELデバイス用基板の製造方法
Abstract:
透光板と、高屈折率層4と、透明導電層5とを、厚み方向にこの順で備えた有機ELデバイス用基板1であって、透明導電層5を少なくとも第一領域R1と第二領域R2に分離する凹状溝部6を有するとともに、透明導電層5の厚みをt1(μm)、凹状溝部6の最小幅をw1(μm)、透明導電層5の高屈折率層4とは反対側の表面5aを基準とした凹状溝部6の最大深さをd1(μm)とした場合に、t1≦d1かつd1/{(w1)0.5}<0.1なる関係が成立する。