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1. (WO2018198625) 撮像装置

Pub. No.:    WO/2018/198625    International Application No.:    PCT/JP2018/011929
Publication Date: Fri Nov 02 00:59:59 CET 2018 International Filing Date: Sat Mar 24 00:59:59 CET 2018
IPC: G03B 17/02
B60R 1/00
B60S 1/60
G02B 7/02
G03B 15/00
G03B 17/55
H04N 5/225
Applicants: KABUSHIKI KAISHA TOKAI-RIKA-DENKI-SEISAKUSHO
株式会社東海理化電機製作所
Inventors: ICHIMURA, Reiya
市村 玲也
KUDOU, Nobuhiro
工藤 信寛
FUJISAKI, Suguru
藤崎 優
Title: 撮像装置
Abstract:
撮像装置(10)では、ヒータ(30)がカバーガラス(24)を外周側から加熱する。ここで、ヒータ(30)の上側及び下側にそれぞれ第1加熱領域(36)及び第2加熱領域(38)が設けられており、第1加熱領域(36)の発熱密度が第2加熱領域(38)の発熱密度より大きくされている。このため、カバーガラス(24)の除霜を行う際にカバーガラス(24)の中心部分及び中心より上側部分に水滴が残るのを抑制でき、カバーガラス(24)の中心部分に水滴が配置されることを抑制できる。