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1. WO2018198302 - 架張装置、蒸着マスク製造装置および蒸着マスク製造方法

公開番号 WO/2018/198302
公開日 01.11.2018
国際出願番号 PCT/JP2017/016886
国際出願日 28.04.2017
IPC
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
24
真空蒸着
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
04
選択された表面部分の被覆,例.マスクを用いるもの
C23C 14/24 (2006.01)
C23C 14/04 (2006.01)
CPC
C23C 14/04
C23C 14/24
出願人
  • シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
発明者
  • 中島 信作 NAKAJIMA, Shinsaku; --
代理人
  • 特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; 大阪府大阪市北区天神橋2丁目北2番6号 大和南森町ビル Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300041, JP
優先権情報
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) STRETCHING DEVICE, DEVICE FOR VAPOR DEPOSITION MASK MANUFACTURING, AND METHOD FOR VAPOR DEPOSITION MANUFACTURING
(FR) DISPOSITIF D'ÉTIRAGE, DISPOSITIF DE FABRICATION DE MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
(JA) 架張装置、蒸着マスク製造装置および蒸着マスク製造方法
要約
(EN)
Provided is a stretching device (1) that imparts tension to a vapor deposition mask (5), wherein the stretching device (1) is provided with: tension drive devices (31 – 34) for stretching tension end parts (51 – 54) provided in at least two locations apiece on both ends of a vapor deposition mask (1) so as to impart the tensile strength to the vapor deposition mask (5); rotating mechanisms (21 – 24) for rotating the tension end parts (51 – 54) along end edge parts in the direction the vapor deposition mask (5) is stretched around drive shafts (21a – 24a) extending in a direction perpendicular to the surface of the vapor deposition mask (5); displacement sensors 8, 9 for detecting displacement of the end edge parts on which the tensile strength operates in the vapor deposition mask (5); and a control device (1) for controlling the rotating mechanisms (21 – 24) so as to rotate the rotating mechanisms (21 – 24) at the angle of rotation and a direction of rotation in correspondence with the displacement detected by the displacement sensors (8, 9).
(FR)
La présente invention concerne un dispositif d'étirage (1) qui confère une tension à un masque de dépôt en phase vapeur (5), le dispositif d'étirage (1) étant pourvu de : dispositifs d'entraînement de tension (31-34) pour étirer des parties d'extrémité de tension (51-54) disposés à au moins deux emplacements sur chacune des deux extrémités d'un masque de dépôt en phase vapeur (1) de façon à conférer une résistance à la traction au masque de dépôt en phase vapeur (5); des mécanismes rotatifs (21-24) pour faire tourner les parties d'extrémité de tension (51-54) le long de parties de bord d'extrémité dans la direction dans laquelle le masque de dépôt en phase vapeur (5) est étiré autour d'arbres d'entraînement (21a-24a) s'étendant dans une direction perpendiculaire à la surface du masque de dépôt en phase vapeur (5); des capteurs de déplacement 8, 9 pour détecter un déplacement des parties de bord d'extrémité sur lesquels la résistance à la traction fonctionne dans le masque de dépôt en phase vapeur (5); et un dispositif de commande (1) pour commander les mécanismes de rotation (21-24) de façon à faire tourner les mécanismes de rotation (21-24) à l'angle de rotation et dans une direction de rotation en correspondance avec le déplacement détecté par les capteurs de déplacement (8, 9).
(JA)
架張装置(1)は、蒸着マスク(5)に張力を与える。架張装置(1)は、蒸着マスク(5)に張力を与えるように、蒸着マスク(1)の両端に少なくとも2箇所ずつ設けられた引張端部(51~54)を引っ張る引張駆動装置(31~34)と、蒸着マスク(5)が引っ張られる方向の端縁部に沿った引張端部(51~54)を、蒸着マスク(5)の面に垂直な方向に伸びる駆動軸(21a~24a)の周りに回転させる回転機構(21~24)と、蒸着マスク(5)において張力が作用する端縁部の変位を検出する変位センサ8,9と、変位センサ(8,9)によって検出された変位に応じた回転角度および回転方向で回転機構(21~24)を回転させるように回転機構(21~24)を制御する制御装置(1)と、を備えている。
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