このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2018198227) EUV光生成装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/198227 国際出願番号: PCT/JP2017/016542
国際公開日: 01.11.2018 国際出願日: 26.04.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
出願人:
ギガフォトン株式会社 GIGAPHOTON INC. [JP/JP]; 栃木県小山市大字横倉新田400番地 400, Oaza Yokokurashinden, Oyama-shi, Tochigi 3238558, JP
発明者:
岡崎 信次 OKAZAKI, Shinji; JP
若林 理 WAKABAYASHI, Osamu; JP
代理人:
松浦 憲三 MATSUURA, Kenzo; 東京都新宿区西新宿二丁目6番1号 新宿住友ビル23階 私書箱第176号 新都心国際特許事務所 Matsuura & Associates, P.O. Box 176, Shinjuku Sumitomo Bldg. 23F, 6-1, Nishi-shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1630223, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) EUV LIGHT GENERATION DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE GÉNÉRATION DE LUMIÈRE UVE
(JA) EUV光生成装置
要約:
(EN) An EUV light generation device (10a) includes: A. an electron storage ring (12) including a first linear portion (46a) and a second linear portion (46b); B. an electron supply device (11) that supplies the electron storage ring (12) with electrons for an electron bunch; C. a high-frequency accelerator cavity (43) arranged in the first linear portion (46a) for accelerating the electron bunch so that the length Lez of the electron bunch satisfies 0.09 m ≤Lez ≤3 m; and D. an undulator (14) arranged in the second linear portion (46b) for outputting EUV light when the electron bunch is incident thereon. It is even more preferable that the length Lez of the electron bunch satisfy 0.09 m ≤Lez ≤0.9 m.
(FR) L'invention concerne un dispositif de génération de lumière UVE (10a) comprenant : A. un anneau de stockage d'électrons (12) incluant une première portion linéaire (46a) et une deuxième portion linéaire (46b) ; B. un dispositif d'alimentation en électrons (11) qui alimente l'anneau de stockage d'électrons (12) en électrons pour un faisceau d'électrons ; C. une cavité d'accélérateur à haute fréquence (43) disposée dans la première portion linéaire (46a) pour accélérer le faisceau d'électrons de telle sorte que la longueur Lez du faisceau d'électrons vérifie la relation 0,09 m ≤ Lez ≤ 3 m ; et D. un ondulateur (14) disposé dans la deuxième portion linéaire (46b) pour délivrer en sortie de la lumière UVE lorsque le faisceau d'électrons est incident sur celui-ci. Il est encore plus préférable que la longueur Lez du faisceau d'électrons vérifie la relation 0,09 m ≤ Lez ≤ 0,9 m.
(JA) EUV光生成装置(10a)であって、以下を備える。A.第1の直線部(46a)及び第2の直線部(46b)を含む電子蓄積リング(12);B.電子蓄積リング(12)に電子バンチに電子を供給する電子供給装置(11);C.第1の直線部(46a)に配置され、電子バンチの長さLezが「0.09m≦Lez≦3m」を満たすように電子バンチを加速する高周波加速空洞(43);及び、D.第2の直線部(46b)に配置され、電子バンチが入射することによりEUV光を出力するアンジュレータ(14)。電子バンチの長さLezは、「0.09m≦Lez≦0.9m」を満たすことがさらに好ましい。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)