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1. (WO2018196619) FLUORENE OXIME ESTER PHOTOINITIATOR CONTAINING POLYMERIZABLE GROUP, PREPARATION METHOD AND USE THEREOF
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国際公開番号: WO/2018/196619 国際出願番号: PCT/CN2018/082761
国際公開日: 01.11.2018 国際出願日: 12.04.2018
IPC:
C07C 13/567 (2006.01) ,C07C 251/66 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/027 (2006.01) ,G02B 5/20 (2006.01)
C 化学;冶金
07
有機化学
C
非環式化合物または炭素環式化合物
13
6員芳香環以外の環を含有する環式炭化水素またはそれらの環と6員芳香環とを含有する環式炭化水素
28
多環式炭化水素またはそれらの非環式炭化水素誘導体
32
縮合環をもつもの
54
3個の縮合環を有するもの
547
少なくとも1個の環は6員環でなく,他の環は高々6員環であるもの
567
フルオレン;完全または部分水素化されたフルオレン
C 化学;冶金
07
有機化学
C
非環式化合物または炭素環式化合物
251
炭素骨格に二重結合で結合している窒素原子を含有する化合物
32
オキシム
62
オキシイミノ基の酸素原子がエステル化されているもの
64
カルボン酸によるもの
66
エステル化されたカルボキシル基が水素原子または,非環式炭素原子もしくは6員芳香環以外の環の炭素原子に結合しているもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
20
フィルター
出願人:
常州强力先端电子材料有限公司 CHANGZHOU TRONLY ADVANCED ELECTRONIC MATERIALS CO., LTD. [CN/CN]; 中国江苏省常州市 天宁区郑陆镇武澄工业园 Wucheng Industrial Park, Zhenglu Town, Tianning District Changzhou, Jiangsu 213159, CN
常州强力电子新材料股份有限公司 CHANGZHOU TRONLY NEW ELECTRONIC MATERIALS CO., LTD. [CN/CN]; 中国江苏省常州市 武进区遥观镇钱家工业园 Qianjia Industrial Park, Yaoguan Town, Wujin District Changzhou, Jiangsu 213011, CN
発明者:
钱晓春 QIAN, Xiaochun; CN
代理人:
北京康信知识产权代理有限责任公司 KANGXIN PARTNERS, P.C.; 中国北京市 海淀区知春路甲48号盈都大厦A座16层 Floor 16, Tower A, Indo Building A48 Zhichun Road, Haidian District Beijing 100098, CN
優先権情報:
201710274018.425.04.2017CN
201710796351.106.09.2017CN
発明の名称: (EN) FLUORENE OXIME ESTER PHOTOINITIATOR CONTAINING POLYMERIZABLE GROUP, PREPARATION METHOD AND USE THEREOF
(FR) PHOTOINITIATEUR À BASE D'ESTER D'OXIME FLUORÈNE CONTENANT UN GROUPE POLYMÉRISABLE, SON PROCÉDÉ DE PRÉPARATION ET SON UTILISATION
(ZH) 含有可聚合基团的芴肟酯类光引发剂、制备方法及其应用
要約:
(EN) Disclosed are a fluorene oxime ester photoinitiator containing a polymerizable group, a preparation method and the use thereof, the fluorene oxime ester photoinitiator has the structure as shown in general formula (I), wherein R2 represents a polymerizable group. Also disclosed are a light curable composition and the use thereof, the light curable composition comprises the photoinitiator containing a fluorene oxime ester and a polymer monomer.
(FR) L'invention concerne un photoinitiateur à base d'ester d'oxime fluorène contenant un groupe polymérisable, un procédé de préparation et son utilisation, le photoinitiateur d'ester d'oxime fluorène ayant la structure telle que représentée par la formule générale (I), R2 représentant un groupe polymérisable. L'invention concerne également une composition photodurcissable et son utilisation, la composition photodurcissable comprenant le photoinitiateur contenant un ester d'oxime fluorène et un monomère de polymère.
(ZH) 一种含有可聚合基团的芴肟酯类光引发剂、制备方法及其应用,该芴肟酯类光引发剂具有如通式(I)所示结构,其中R 2表示可聚合基团。以及一种光固化组合物及其应用,该光固化组合物包括该含芴肟酯的光引发剂和聚合物单体。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 中国語 (ZH)
国際出願言語: 中国語 (ZH)