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1. (WO2018194045) 撮像装置、撮像装置の制御方法および処理装置

Pub. No.:    WO/2018/194045    International Application No.:    PCT/JP2018/015802
Publication Date: Fri Oct 26 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Wed Apr 18 01:59:59 CEST 2018
IPC: G03B 15/05
G03B 7/28
G03B 15/03
H04N 5/225
H04N 5/235
Applicants: SONY CORPORATION
ソニー株式会社
Inventors: ODA, Katsunari
小田 勝也
Title: 撮像装置、撮像装置の制御方法および処理装置
Abstract:
本発光の調光精度を高める。 プリ発光処理によって求められたプリ発光被写体推定距離またはこのプリ発光被写体推定距離に対応する情報と、レンズを介したピント情報から求められたレンズピント被写体推定距離に基づいて、本発光量を調整する。バウンス発光の場合には、プリ発光被写体推定距離がレンズピント被写体推定距離より短いときには、プリ発光被写体推定距離から所定量だけレンズピント被写体推定距離に近づけた距離を本発光調整被写体推定距離とする。