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1. (WO2018193993) 成膜装置及び成膜方法
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国際公開番号: WO/2018/193993 国際出願番号: PCT/JP2018/015577
国際公開日: 25.10.2018 国際出願日: 13.04.2018
IPC:
C23C 14/58 (2006.01) ,C23C 14/14 (2006.01) ,H01M 4/1395 (2010.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
58
後処理
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06
被覆材料に特徴のあるもの
14
金属質材料,ほう素またはけい素
H 電気
01
基本的電気素子
M
化学的エネルギーを電気的エネルギーに直接変換するための方法または手段,例.電池
4
電極(電気分解用電極C25)
02
活物質からなるまたは活物質を含有した電極
13
非水電解質二次電池用の電極,例.リチウム電池用のもの;その製造方法
139
製造方法
1395
金属,Siまたは合金を主成分とする電極の製造方法
出願人:
株式会社アルバック ULVAC, INC. [JP/JP]; 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地 2500 Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543, JP
発明者:
横山 礼寛 YOKOYAMA, Akihiro; JP
武井 応樹 TAKEI, Masaki; JP
佐藤 昌敏 SATO, Masatoshi; JP
清田 淳也 KIYOTA, Junya; JP
代理人:
大森 純一 OMORI, Junichi; JP
優先権情報:
2017-08254519.04.2017JP
発明の名称: (EN) FILM FORMING APPARATUS AND FILM FORMING METHOD
(FR) APPAREIL DE FORMATION DE FILM ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM
(JA) 成膜装置及び成膜方法
要約:
(EN) A film forming apparatus according to one embodiment of the present invention comprises a film formation unit, a first treatment unit, a second treatment unit and a vacuum chamber. The film formation unit comprises an evaporation source for evaporating a lithium metal, and forms a lithium metal film on a substrate. The first treatment unit comprises a first treatment chamber for hydroxylating the surface of the lithium metal film. The second treatment unit comprises a second treatment chamber for carbonating the hydroxylated surface. The vacuum chamber contains the film formation unit, the first treatment unit and the second treatment unit.
(FR) La présente invention concerne, selon un mode de réalisation, un appareil de formation de film comprenant une unité de formation de film, une première unité de traitement, une seconde unité de traitement et une chambre à vide. L'unité de formation de film comprend une source d'évaporation destinée à l’évaporation d’un métal lithium, et forme un film de métal lithium sur un substrat. La première unité de traitement comprend une première chambre de traitement destinée à l’hydroxylation de la surface du film de métal lithium. La seconde unité de traitement comprend une seconde chambre de traitement destinée à la carbonatation de la surface hydroxylée. La chambre à vide contient l'unité de formation de film, la première unité de traitement et la seconde unité de traitement.
(JA) 本発明の一形態に係る成膜装置は、成膜部と、第1の処理部と、第2の処理部と、真空チャンバと、を有する。上記成膜部は、リチウム金属を蒸発させる蒸発源を含み、基材上にリチウム金属膜を成膜する。上記第1の処理部は、上記リチウム金属膜の表面を水酸化する第1の処理室を含む。上記第2の処理部は、水酸化された前記表面を炭酸化する第2の処理室を含む上記真空チャンバは、上記成膜部、上記第1の処理部及び上記第2の処理部を収容する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
KR1020190020018CN109689927