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1. (WO2018193954) EUV光用感光性組成物、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/193954 国際出願番号: PCT/JP2018/015332
国際公開日: 25.10.2018 国際出願日: 12.04.2018
IPC:
G03F 7/039 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
039
光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
白川 三千紘 SHIRAKAWA Michihiro; JP
古谷 創 FURUTANI Hajime; JP
藤田 光宏 FUJITA Mitsuhiro; JP
土村 智孝 TSUCHIMURA Tomotaka; JP
川島 敬史 KAWASHIMA Takashi; JP
小川 倫弘 OGAWA Michihiro; JP
金子 明弘 KANEKO Akihiro; JP
岡 宏哲 OKA Hironori; JP
白石 康晴 SHIRAISHI Yasuharu; JP
代理人:
中島 順子 NAKASHIMA Junko; JP
米倉 潤造 YONEKURA Junzo; JP
村上 泰規 MURAKAMI Yasunori; JP
優先権情報:
2017-08446621.04.2017JP
2017-10330425.05.2017JP
2018-06428929.03.2018JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE COMPOSITION FOR EUV LIGHT, PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE
(FR) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE DE LA LUMIÈRE EUV, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
(JA) EUV光用感光性組成物、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法
要約:
(EN) Provided are: a photosensitive composition for EUV light, which is capable of forming a pattern that has a good Z-factor, while being suppressed in pattern collapse; a pattern forming method; and a method for producing an electronic device. This photosensitive composition for EUV light satisfies the requirement 1 and the requirement 2 described below, while containing a predetermined resin and a photoacid generator, or alternatively containing a predetermined resin that has a repeating unit having a photoacid generating group. Requirement 1: The value A obtained by formula (1) is 0.14 or more. A = ([H] × 0.04 + [C] × 1.0 + [N] × 2.1 + [O] × 3.6 + [F] × 5.6 + [S] × 1.5 + [I] × 39.5)/([H] × 1 + [C] × 12 + [N] × 14 + [O] × 16 + [F] × 19 + [S] × 32 + [I] × 127) Formula (1) Requirement 2: The solid content concentration in the photosensitive composition for EUV light is 2.5% by mass or less.
(FR) L'invention concerne : une composition photosensible de la lumière EUV, qui est apte à former un motif qui a un bon facteur Z, tout en étant supprimée dans un affaissement de motif ; un procédé de formation de motif ; et un procédé de production d'un dispositif électronique. Cette composition photosensible de la lumière EUV satisfait l'exigence 1 et l'exigence 2 décrites ci-dessous, tout en contenant une résine prédéterminée et un générateur de photoacide, ou en variante contenant une résine prédéterminée qui a une unité répétitive ayant un groupe générateur de photoacide. Exigence 1 : la valeur A obtenue par la formule (1) est de 0,14 ou plus. A = ([H] × 0,04 + [C] × 1,0 + [N] × 2,1 + [O] × 3,6 + [F] × 5,6 + [S] × 1,5 + [I] × 39,5) [H] × 1 + [C] × 12 + [N] × 14 + [O] × 16 + [F] × 19 + [S] × 32 + [I] ×127) formule (1) Exigence 2 : la teneur en matières solides dans la composition photosensible de la lumière EUV est de 2,5 % en masse ou moins.
(JA) Z-factorが良好で、かつ、パターン倒れが抑制されたパターンを形成可能なEUV光用感光性組成物、パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法を提供する。EUV光用感光性組成物は、所定の樹脂、及び、光酸発生剤を含むか、または、光酸発生基を有する繰り返し単位を有する、所定の樹脂を含み、要件1及び要件2を満たす。 要件1:式(1)で求められるA値が0.14以上である。 式(1):A=([H]×0.04+[C]×1.0+[N]×2.1+[O]×3.6+[F]×5.6+[S]×1.5+[I]×39.5)/([H]×1+[C]×12+[N]×14+[O]×16+[F]×19+[S]×32+[I]×127) 要件2:EUV光用感光性組成物中の固形分濃度が2.5質量%以下である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)