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1. (WO2018193921) 基板処理装置および基板処理方法

Pub. No.:    WO/2018/193921    International Application No.:    PCT/JP2018/015124
Publication Date: Fri Oct 26 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Wed Apr 11 01:59:59 CEST 2018
IPC: H01L 21/304
H01L 21/027
H01L 21/306
Applicants: SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
株式会社SCREENホールディングス
Inventors: SAWASHIMA, Jun
澤島 隼
Title: 基板処理装置および基板処理方法
Abstract:
基板処理装置は、循環流路を流れる処理液を加熱する上流ヒータと、複数の上流流路を流れる処理液の温度を変更する複数の温度調節器と、複数の上流流路を流れる処理液の流量を変更する複数の流量調整バルブとを含む。複数の温度調節器は、処理液を冷却するクーラーまたは処理液を加熱および冷却する冷熱ユニットを含む。複数の温度調節器の設定温度と複数の流量調整バルブの設定流量は、タンクに戻る処理液の温度がタンク内の処理液の温度以下になるように設定される。