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1. (WO2018193822) 電子デバイスおよびその製造方法
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国際公開番号: WO/2018/193822 国際出願番号: PCT/JP2018/014088
国際公開日: 25.10.2018 国際出願日: 02.04.2018
IPC:
H05B 33/06 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/04 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01) ,H05B 33/26 (2006.01)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
02
細部
06
電極端子
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50
光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
02
細部
04
封止装置
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
10
エレクトロルミネッセンス光源の製造に特に適用する装置または方法
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
12
実質的に2次元放射面をもつ光源
26
電極として使用される導電物質の配置あるいは組成によって特徴づけられたもの
出願人:
コニカミノルタ株式会社 KONICA MINOLTA, INC. [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内二丁目7番2号 7-2, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1007015, JP
発明者:
志田 有章 SHIDA Kuniaki; JP
代理人:
特許業務法人磯野国際特許商標事務所 ISONO INTERNATIONAL PATENT OFFICE, P.C.; 東京都港区虎ノ門一丁目1番18号 ヒューリック虎ノ門ビル Hulic Toranomon Building, 1-18, Toranomon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050001, JP
優先権情報:
2017-08454521.04.2017JP
発明の名称: (EN) ELECTRONIC DEVICE AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) 電子デバイスおよびその製造方法
要約:
(EN) Provided is an electronic device which is suppressed in shrinkage of a function development area over time. An electronic device (1) which comprises, on a substrate (2), a first electrode (3), at least one functional layer (4), a second electrode (5), an extraction electrode (6) for the first electrode, and an extraction electrode (7) for the second electrode, and wherein: the first electrode (3), the functional layer (4) and the second electrode (5) are sequentially laminated on the substrate (2) in this order; the first electrode (3) and the extraction electrode (6) for the first electrode are arranged on the substrate (2) at a distance from each other; and the first electrode (3) and the extraction electrode (6) for the first electrode are electrically connected to each other via a first connection member (10) that is interposed between the first electrode (3) and the extraction electrode (6) for the first electrode. Also provided is a method for producing this electronic device (1).
(FR) La présente invention concerne un dispositif électronique qui est supprimé lors du rétrécissement d'une zone de développement de fonction dans le temps. Un dispositif électronique (1) selon l'invention comprend, sur un substrat (2), une première électrode (3), au moins une couche fonctionnelle (4), une seconde électrode (5), une électrode d'extraction (6) pour la première électrode et une électrode d'extraction (7) pour la seconde électrode. La première électrode (3), la couche fonctionnelle (4) et la seconde électrode (5) sont stratifiées successivement sur le substrat (2) dans cet ordre ; la première électrode (3) et l'électrode d'extraction (6) pour la première électrode sont disposées sur le substrat (2) à une certaine distance l'une de l'autre ; et la première électrode (3) et l'électrode d'extraction (6) pour la première électrode sont électriquement connectées l'une à l'autre par l'intermédiaire d'un premier élément de connexion (10) qui est interposé entre la première électrode (3) et l'électrode d'extraction (6) pour la première électrode. L'invention concerne également un procédé de production de ce dispositif électronique (1).
(JA) 機能発現面積が経時的にシュリンクすることを抑制した電子デバイスを提供する。 基板(2)上に、第1電極(3)、少なくとも1層の機能性層(4)、第2電極(5)、第1電極の取り出し電極(6)、第2電極の取り出し電極(7)を有する電子デバイス(1)であって、前記第1電極(3)、前記機能性層(4)および前記第2電極(5)は、前記基板(2)上に、この順に積層されており、前記第1電極(3)と前記第1電極の取り出し電極(6)とは前記基板(2)上に間隔を有して配置されており、前記第1電極(3)と前記第1電極の取り出し電極(6)とは、両者の間に設置された第1接続部材(10)を介して電気的に接続されている電子デバイス(1)である。また、当該電子デバイス(1)を製造する方法である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)