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1. (WO2018193583) スクライブ装置及びスクライブ方法
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国際公開番号: WO/2018/193583 国際出願番号: PCT/JP2017/015909
国際公開日: 25.10.2018 国際出願日: 20.04.2017
IPC:
B28D 5/00 (2006.01)
B 処理操作;運輸
28
セメント,粘土,または石材の加工
D
石材または石材類似材料の加工
5
宝石類,結晶体の精密加工,例.半導体の材料;そのための装置
出願人:
堺ディスプレイプロダクト株式会社 SAKAI DISPLAY PRODUCTS CORPORATION [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumicho, Sakai-ku, Sakai-shi, Osaka 5908522, JP
発明者:
米澤 信宏 YONEZAWA, Nobuhiro; JP
代理人:
河野 英仁 KOHNO, Hideto; JP
河野 登夫 KOHNO, Takao; JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) SCRIBING DEVICE AND SCRIBING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE TRAÇAGE ET PROCÉDÉ DE TRAÇAGE
(JA) スクライブ装置及びスクライブ方法
要約:
(EN) Provided are a scribing device and a scribing method with which breakage of a substrate can be prevented. The scribing device is a scribing device that causes a blade part and a substrate to move relative to each other while pressing the blade part against the substrate to form a scribing line on the substrate. The scribing device is provided with a fixation part that curves and fixes the substrate so that the trajectory of movement of the blade part on the substrate is curved.
(FR) La présente invention concerne un dispositif de traçage et un procédé de traçage grâce auxquels la rupture d’un substrat peut être évitée. Le dispositif de traçage est un dispositif de traçage qui amène une pièce de lame et un substrat à se déplacer l’un par rapport à l’autre tout en pressant la pièce de lame contre le substrat pour former une ligne de traçage sur le substrat. Le dispositif de traçage est muni d’une pièce de fixation qui s’incurve et qui fixe le substrat de sorte que la trajectoire du mouvement de la pièce de lame sur le substrat est incurvée.
(JA) 基板の破損を防止することができるスクライブ装置及びスクライブ方法を提供する。 スクライブ装置は、刃部を基板に押圧しながら刃部と基板とを相対移動させて基板にスクライブラインを形成するスクライブ装置であって、基板上での刃部の移動軌跡が湾曲するように基板を湾曲させて固定する固定部を備える。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)