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1. (WO2018190269) 成膜装置及び成膜方法
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国際公開番号: WO/2018/190269 国際出願番号: PCT/JP2018/014736
国際公開日: 18.10.2018 国際出願日: 06.04.2018
IPC:
C23C 16/455 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
16
ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着(CVD)法
44
被覆の方法に特徴のあるもの
455
ガスを反応室に導入するため,または反応室のガス流を変えるために使われる方法に特徴があるもの
出願人:
株式会社シンクロン SHINCRON CO., LTD. [JP/JP]; 神奈川県横浜市西区みなとみらい四丁目3番5号 3-5, Minatomirai 4-chome, Nishi-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2208680, JP
発明者:
長江 亦周 NAGAE, Ekishu; JP
宮内 充祐 MIYAUCHI, Mitsuhiro; JP
大瀧 芳幸 OTAKI, Yoshiyuki; JP
重田 勇輝 SHIGETA,Yuki; JP
佐守 真悟 SAMORI, Shingo; JP
代理人:
とこしえ特許業務法人 TOKOSHIE PATENT FIRM; 東京都新宿区西新宿7丁目22番27号 西新宿KNビル Nishishinjuku KN Bldg., 22-27, Nishishinjuku 7-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600023, JP
優先権情報:
201710229298.710.04.2017CN
発明の名称: (EN) FILM FORMATION DEVICE AND FILM FORMATION METHOD
(FR) DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM
(JA) 成膜装置及び成膜方法
要約:
(EN) The present invention discloses a film formation device and a film formation method for forming a thin film. The film formation device comprises: a vacuum chamber; an exhaust mechanism that is connected to the vacuum chamber and that discharges exhaust; a substrate holding mechanism that holds a substrate within the vacuum chamber; a film formation mechanism arranged within the vacuum chamber; and an introduction mechanism that is connected to the vacuum chamber and that is capable of introducing a hydroxyl group-containing gas into the vacuum chamber during film formation by the film formation mechanism.
(FR) La présente invention concerne un dispositif de formation de film et un procédé de formation de film pour former un film mince. Le dispositif de formation de film comprend : une chambre à vide ; un mécanisme d’échappement qui est raccordé à la chambre à vide et qui évacue l’échappement ; un mécanisme de maintien de substrat qui maintient un substrat à l’intérieur de la chambre à vide ; un mécanisme de formation de film agencé à l’intérieur de la chambre à vide ; et un mécanisme d’introduction qui est relié à la chambre à vide et qui est capable d’introduire un gaz contenant un groupe hydroxyle dans la chambre à vide pendant la formation de film par le mécanisme de formation de film.
(JA) 本発明は薄膜形成用の成膜装置及び成膜方法を開示している。成膜装置は、真空チャンバーと、真空チャンバーに接続し、排気する排気機構と、真空チャンバー内にて基板を保持する基板保持機構と、真空チャンバー内に配置する成膜機構と、真空チャンバーに接続され、成膜機構にて成膜中に真空チャンバー内に水酸基含有気体を導入可能な導入機構と、を含む。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)