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1. (WO2018190268) 成膜装置
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国際公開番号: WO/2018/190268 国際出願番号: PCT/JP2018/014735
国際公開日: 18.10.2018 国際出願日: 06.04.2018
IPC:
C23C 14/34 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
34
スパッタリング
出願人:
株式会社シンクロン SHINCRON CO., LTD. [JP/JP]; 神奈川県横浜市西区みなとみらい四丁目3番5号 3-5, Minatomirai 4-chome, Nishi-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2208680, JP
発明者:
長江 亦周 NAGAE, Ekishu; JP
菅原 卓哉 SUGAWARA, Takuya; JP
青山 貴昭 AOYAMA, Takaaki; JP
代理人:
とこしえ特許業務法人 TOKOSHIE PATENT FIRM; 東京都新宿区西新宿7丁目22番27号 西新宿KNビル Nishishinjuku KN Bldg., 22-27, Nishishinjuku 7-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600023, JP
優先権情報:
201710228584.110.04.2017CN
発明の名称: (EN) FILM FORMATION DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM
(JA) 成膜装置
要約:
(EN) The present invention discloses a film formation device. The film formation device is provided with: a vacuum container; an exhaust mechanism communicating with the interior of the vacuum container; a substrate holding means capable of holding a plurality of substrates; a film formation area that is positioned in the interior of the vacuum container and that makes it possible for sputter ions to be emitted from a target by sputtering and arrive at the substrates; and an isolation means that is positioned within the vacuum container and that isolates the film formation area from other areas within the vacuum container. The isolation means is arranged such that the film formation area communicates with the exterior of said film formation area.
(FR) La présente invention concerne un dispositif de formation de film. Le dispositif de formation de film est pourvu de : un récipient sous vide ; un mécanisme d’échappement communiquant avec l’intérieur du récipient sous vide ; un moyen de maintien de substrat capable de maintenir une pluralité de substrats ; une zone de formation de film qui est positionnée à l’intérieur du récipient sous vide et qui permet que des ions de pulvérisation cathodique soient émis depuis une cible par pulvérisation cathodique et arrivent au niveau des substrats ; et un moyen d’isolation qui est positionné à l’intérieur du récipient sous vide et qui isole la zone de formation de film vis-à-vis des autres zones à l’intérieur du récipient sous vide. Le moyen d’isolation est agencé de telle sorte que la zone de formation de film communique avec l’extérieur de ladite zone de formation de film.
(JA) 本発明は成膜装置を開示している。成膜装置は、真空容器と、前記真空容器内部に連通する排気機構と、複数の基板を保持可能な基板保持手段と、前記真空容器内部に位置し、スパッタによってターゲットからスパッタイオンを放出し、前記基板に到達させ得る成膜領域と、前記真空容器内に位置し、前記成膜領域を前記真空容器内の他の領域から隔離する隔離手段と、を備え、前記隔離手段は、前記成膜領域が前記成膜領域の外部に連通するように配置される。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)