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1. (WO2018190160) 研磨シートおよび研磨シートを製造する方法
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国際公開番号: WO/2018/190160 国際出願番号: PCT/JP2018/013850
国際公開日: 18.10.2018 国際出願日: 30.03.2018
IPC:
B24D 3/00 (2006.01) ,H01L 21/301 (2006.01)
B 処理操作;運輸
24
研削;研磨
D
研削,バフ加工,または刃砥ぎ用工具
3
研磨体または研磨シートの物理的特徴,例.特別な性質の研磨表面;構成成分により特徴づけられる研磨体または研磨シート
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
301
半導体本体を別個の部品に細分割するため,例.分離する
出願人:
株式会社ナノテム NANO TEM CO., LTD. [JP/JP]; 新潟県長岡市城岡3丁目2-10 2-10, Jyooka 3-chome, Nagaoka-shi, Niigata 9400021, JP
発明者:
高田 篤 TAKATA Atsushi; JP
石崎 幸三 ISHIZAKI Kozo; JP
小野寺 徳郎 ONODERA Norio; JP
代理人:
木村 満 KIMURA Mitsuru; JP
優先権情報:
2017-08890811.04.2017JP
発明の名称: (EN) POLISHING SHEET AND METHOD FOR PRODUCING POLISHING SHEET
(FR) FEUILLE DE POLISSAGE ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) 研磨シートおよび研磨シートを製造する方法
要約:
(EN) A polishing sheet has a sheet-form base and abrasive grains disposed so as to penetrate from one surface of the base to the other surface. The abrasive grains are preferably disposed on the one surface with the tips, which will contact the object being polished, aligned in the same plane. Preferably, the abrasive grains are disposed apart and form a single particle layer. The average diameter of the abrasive grains is preferably 2-3 times the thickness of the base. The polishing sheet can be used as dicing blades and the kerf width is preferably 1.1-1.5 times the average diameter of the abrasive grains. The abrasive grains are preferably disposed concentrically.
(FR) La présente invention concerne une feuille de polissage ayant une base en forme de feuille et des grains abrasifs disposés de façon à pénétrer d'une surface de la base à l'autre surface. Les grains abrasifs sont de préférence disposés sur une surface avec les pointes, qui seront en contact avec l'objet à polir, alignées dans le même plan. De préférence, les grains abrasifs sont disposés à distance et forment une seule couche de particules. Le diamètre moyen des grains abrasifs est de préférence de 2 à 3 fois l'épaisseur de la base. La feuille de polissage peut être utilisée comme lames de découpage et la largeur de saignée est de préférence de 1,1 à 1,5 fois le diamètre moyen des grains abrasifs. Les grains abrasifs sont de préférence disposés de manière concentrique.
(JA) 研磨シートは、シート状の基材と、基材の一方の面から他方の面に貫いて配置された砥粒と、を有する。砥粒は、一方の面において被研磨体に当接する先端部を同一平面に揃えて配置されているとよい。砥粒は、離間して配置され、単一粒子層を形成するとよい。砥粒の平均径は、基材の厚さの2~3倍であるとよい。研磨シートは、ダイシングブレードに適用可能であり、切断溝幅は、砥粒の平均径の1.1~1.5倍であるとよい。砥粒を同心円状に配列するとよい。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)