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1. (WO2018190145) 密封装置
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国際公開番号: WO/2018/190145 国際出願番号: PCT/JP2018/013548
国際公開日: 18.10.2018 国際出願日: 30.03.2018
IPC:
F16J 15/26 (2006.01) ,F16J 15/16 (2006.01) ,F16J 15/3204 (2016.01)
F 機械工学;照明;加熱;武器;爆破
16
機械要素または単位;機械または装置の効果的機能を生じ維持するための一般的手段
J
ピストン;シリンダ;圧力容器一般;密封装置
15
密封装置
16
相対的に運動している表面間に設けられたもの
26
剛体密封リング用詰物箱をもつもの
F 機械工学;照明;加熱;武器;爆破
16
機械要素または単位;機械または装置の効果的機能を生じ維持するための一般的手段
J
ピストン;シリンダ;圧力容器一般;密封装置
15
密封装置
16
相対的に運動している表面間に設けられたもの
[IPC code unknown for F16J 15/3204]
出願人:
NOK株式会社 NOK CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区芝大門一丁目12番15号 12-15, Shibadaimon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058585, JP
発明者:
稀代 昌道 KISHIRO Masamichi; JP
森 達也 MORI Tatsuya; JP
目黒 直樹 MEGURO Naoki; JP
代理人:
園田・小林特許業務法人 SONODA & KOBAYASHI INTELLECTUAL PROPERTY LAW; 東京都新宿区西新宿二丁目1番1号 新宿三井ビル34階 34th Floor, Shinjuku Mitsui Building, 1-1, Nishi-Shinjuku 2-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1630434, JP
優先権情報:
2017-07856612.04.2017JP
発明の名称: (EN) SEALING DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'ÉTANCHÉITÉ
(JA) 密封装置
要約:
(EN) Provided is a sealing device configured so that the supporting force of a back-up ring (3) which supports a main lip (12) can be maintained even if high pressure is applied. The sealing device is configured such that: the main lip (12) is disposed on the sealed space A side of the inner diameter section (21b) of an annular base plate (21), the main lip (12) consisting of a rubber-like elastic material and being in close contact with the outer peripheral surface of a shaft (113) while facing the sealed space A side; the back-up ring (3) which supports the main lip (12) from the atmosphere B side and the inner peripheral side is disposed between the inner diameter section (21b) of the annular base plate (21) and the main lip (12); and the back-up ring (3) and the inner diameter section (21b) of the annular base plate (21) are radially engaged with each other through an engagement means (3a, 21c).
(FR) L'invention concerne un dispositif d'étanchéité conçu de sorte que la force de soutien d'une bague d'appui (3) qui soutient une lèvre principale (12) peut être maintenue même si une forte pression est appliquée. Le dispositif d'étanchéité est conçu de la manière suivante : la lèvre principale (12) est disposée côté espace étanche A de la section de diamètre interne (21b) d'une plaque de base annulaire (21), la lèvre principale (12) étant constituée d'un matériau élastique de type caoutchouc et étant en contact étroit avec la surface périphérique externe d'un arbre (113) tout en faisant face au côté espace étanche A ; la bague d'appui (3) qui soutient la lèvre principale (12) depuis le côté atmosphère B et le côté périphérique interne est disposée entre la section de diamètre interne (21b) de la plaque de base annulaire (21) et la lèvre principale (12) ; et la bague d'appui (3) et la section de diamètre interne (21b) de la plaque de base annulaire (21) sont radialement en prise l'une avec l'autre par l'intermédiaire d'un moyen de mise en prise (3a, 21c).
(JA) 高圧が作用したときも主リップ(12)に対するバックアップリング(3)の支持力を維持することの可能な密封装置を提供するために、環状基板(21)の内径部(21b)の密封空間A 側に、ゴム状弾性材料からなり密封空間A 側を向いた状態で軸(113)の外周面に密接される主リップ(12)が設けられ、前記主リップ(12)を大気B 側かつ内周側から支承するバックアップリング(3)が前記環状基板(21)の内径部(21b)と前記主リップ(12)との間に配置され、前記バックアップリング(3)と前記環状基板(21)の内径部(21b)が、係合手段(3a,21c)を介して径方向に互いに係合される。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)