このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2018190112) 擬似スペックルパターン生成装置、擬似スペックルパターン生成方法、観察装置および観察方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/190112 国際出願番号: PCT/JP2018/012131
国際公開日: 18.10.2018 国際出願日: 26.03.2018
IPC:
G02B 27/48 (2006.01) ,G02B 21/06 (2006.01) ,G02F 1/13 (2006.01)
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
27
他の光学系;他の光学装置
48
レーザスペックル光学系
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
21
顕微鏡
06
試料照明のための手段
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
出願人:
浜松ホトニクス株式会社 HAMAMATSU PHOTONICS K.K. [JP/JP]; 静岡県浜松市東区市野町1126番地の1 1126-1, Ichino-cho, Higashi-ku, Hamamatsu-shi, Shizuoka 4358558, JP
発明者:
酒井 寛人 SAKAI Hiroto; JP
安藤 太郎 ANDO Taro; JP
豊田 晴義 TOYODA Haruyoshi; JP
大竹 良幸 OHTAKE Yoshiyuki; JP
瀧口 優 TAKIGUCHI Yuu; JP
兵土 知子 HYODO Tomoko; JP
代理人:
長谷川 芳樹 HASEGAWA Yoshiki; JP
黒木 義樹 KUROKI Yoshiki; JP
柴山 健一 SHIBAYAMA Kenichi; JP
優先権情報:
2017-07747510.04.2017JP
発明の名称: (EN) PSEUDO SPECKLE PATTERN GENERATION DEVICE, PSEUDO SPECKLE PATTERN GENERATION METHOD, OBSERVATION DEVICE, AND OBSERVATION METHOD
(FR) DISPOSITIF DE GÉNÉRATION DE PSEUDO-MOTIF DE CHATOIEMENT, PROCÉDÉ DE GÉNÉRATION DE PSEUDO-MOTIF DE CHATOIEMENT, DISPOSITIF D'OBSERVATION ET PROCÉDÉ D'OBSERVATION
(JA) 擬似スペックルパターン生成装置、擬似スペックルパターン生成方法、観察装置および観察方法
要約:
(EN) A pseudo speckle pattern generation device 1A comprising a light source 11, a beam expander 12, and a spatial light modulator 13. The spatial light modulator 13: has an intensity modulated distribution on the basis of a pseudo speckle pattern calculated from a pseudo random number pattern and a correlation function; inputs light output from the light source 11 and having the beam diameter thereof expanded by the beam expander 12; spatially modulates the input light in accordance with the modulated distribution; and outputs the modulated light. As a result, a pseudo speckle pattern generation device, etc., is provided that has a high degree of freedom of spatial structure for the generated speckle pattern or light intensity statistical distribution settings.
(FR) La présente invention concerne un dispositif de génération de pseudo-motif de chatoiement (1A) comprenant une source de lumière (11), un dilatateur de faisceau (12) et un modulateur spatial de lumière (13). Le modulateur spatial de lumière (13) : a une distribution modulée en intensité sur la base d'un pseudo-motif de chatoiement calculé à partir d'un motif de nombre pseudo-aléatoire et d'une fonction de corrélation ; entre la lumière émise par la source de lumière (11) dont le diamètre de faisceau est étendu par le dilatateur de faisceau (12) ; module spatialement la lumière d'entrée en fonction de la distribution modulée ; et délivre en sortie la lumière modulée. Par conséquent la présente invention permet de résoudre le problème consistant à fournir dispositif de génération de pseudo-motif de chatoiement et autres qui offre un degré élevé de liberté de structure spatiale pour le motif de chatoiement généré ou pour les réglages de distribution statistique d'intensité lumineuse.
(JA) 擬似スペックルパターン生成装置1Aは、光源11、ビームエキスパンダ12および空間光変調器13を備える。空間光変調器13は、擬似乱数パターンおよび相関関数から計算される擬似スペックルパターンに基づく強度の変調分布を有し、光源11から出力されてビームエキスパンダ12によりビーム径を拡大された光を入力し、その入力した光を変調分布に応じて空間的に変調して、その変調後の光を出力する。これにより、生成されるスペックルパターンの空間構造または光強度統計分布の設定の自由度が高い擬似スペックルパターン生成装置等が実現される。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)