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1. (WO2018190105) 反射防止膜及び光学部材
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国際公開番号: WO/2018/190105 国際出願番号: PCT/JP2018/011924
国際公開日: 18.10.2018 国際出願日: 23.03.2018
IPC:
G02B 1/115 (2015.01) ,B01J 21/06 (2006.01) ,B01J 23/10 (2006.01) ,B01J 23/26 (2006.01) ,B01J 27/24 (2006.01) ,B01J 35/02 (2006.01) ,G02B 3/00 (2006.01)
[IPC code unknown for G02B 1/115]
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
J
化学的または物理的方法,例.触媒,コロイド化学;それらの関連装置
21
マグネシウム,ほう素,アルミニウム,炭素,けい素,チタン,ジルコニウムまたはハフニウム,その酸化物または水酸化物からなる触媒
06
けい素,チタン,ジルコニウムまたはハフニウム;その酸化物または水酸化物
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
J
化学的または物理的方法,例.触媒,コロイド化学;それらの関連装置
23
グループ21/00に分類されない,金属または金属酸化物または水酸化物からなる触媒
10
希土類に関するもの
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
J
化学的または物理的方法,例.触媒,コロイド化学;それらの関連装置
23
グループ21/00に分類されない,金属または金属酸化物または水酸化物からなる触媒
16
ひ素,アンチモン,ビスマス,バナジウム,ニオブ,タンタル,ポロニウム,クロム,モリブデン,タングステン,マンガン,テクネチウムまたはレニウムに関するもの
24
クロム,モリブデンまたはタングステン
26
クロム
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
J
化学的または物理的方法,例.触媒,コロイド化学;それらの関連装置
27
ハロゲン,硫黄,セレン,テルル,りん,窒素またはそれらの化合物からなる触媒;炭素化合物からなる触媒
24
窒素化合物
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
J
化学的または物理的方法,例.触媒,コロイド化学;それらの関連装置
35
形態または物理的性質に特徴のある触媒一般
02
固体
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
3
単レンズまたは複合レンズ
出願人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者:
高橋 裕樹 TAKAHASHI Hiroki; JP
代理人:
特許業務法人航栄特許事務所 KOH-EI PATENT FIRM, P.C.; 東京都港区西新橋一丁目7番13号 虎ノ門イーストビルディング9階 Toranomon East Bldg. 9F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003, JP
優先権情報:
2017-07900812.04.2017JP
発明の名称: (EN) ANTI-REFLECTION FILM AND OPTICAL MEMBER
(FR) FILM ANTIREFLET ET ÉLÉMENT OPTIQUE
(JA) 反射防止膜及び光学部材
要約:
(EN) This anti-reflection film 3, which is arranged on an optical substrate 2 of an optical member 1, is provided with: a refractive index modulation film 4 which comprises a first layer 10, a second layer 11 that has a higher refractive index than the first layer 10, and a third layer 12 that has a lower refractive index than the second layer 11, and which has a thickness from a surface 4a of 20 nm or more but less than 150 nm; and a photocatalyst film 5 which comprises one or more photocatalyst active layers 14 that contain titanium dioxide, and which is arranged between the refractive index modulation film 4 and the optical substrate 2, so that a refractive index modulation film-side interface 5a is arranged at a position within 150 nm from the surface 4a and the total thickness of the photocatalyst active layers 14 is from 350 nm to 1,000 nm (inclusive).
(FR) Ce film antireflet, qui est disposé sur un substrat optique d'un élément optique, comprend : un film de modulation d'indice de réfraction qui comprend une première couche, une deuxième couche 11 qui a un indice de réfraction plus élevé que la première couche 10, et une troisième couche 12 qui a un indice de réfraction inférieur à celui de la deuxième couche 11, et qui a une épaisseur à partir d'une surface de 20 nm ou plus mais inférieure à 150 nm; et un film de photocatalyseur qui comprend une ou plusieurs couches actives de photocatalyseur qui contiennent du dioxyde de titane, et qui est disposée entre le film de modulation d'indice de réfraction et le substrat optique, de telle sorte qu'une interface côté film de modulation d'indice de réfraction 5a est agencée à une position à l'intérieur de 150 nm à partir de la surface 4a et que l'épaisseur totale des couches actives de photocatalyseur 14 est de 350 nm à 1 000 nm (inclus).
(JA) 光学部材1の光学基材2上に設けられる反射防止膜3は、第1の層10と、第1の層10より高屈折率な第2の層11と、第2の層11より低屈折率な第3の層12とを含み、表面4aからの厚みが20nm以上150nm未満である反射率調整膜4と、二酸化チタンを含有する一層以上の光触媒活性層14を含み、反射率調整膜4と光学基材2との間に設けられ且つ反射率調整膜側の界面5aが表面4aから150nm以下の位置に配置されており、光触媒活性層14の合計の厚みが350nm以上1000nm以下である光触媒膜5と、を備える。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)