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1. (WO2018190089) 洗浄水供給装置
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国際公開番号: WO/2018/190089 国際出願番号: PCT/JP2018/011100
国際公開日: 18.10.2018 国際出願日: 20.03.2018
IPC:
H01L 21/304 (2006.01) ,C02F 1/42 (2006.01) ,C02F 1/58 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
302
表面の物理的性質または形状を変換するため,例.エッチング,ポリシング,切断
304
機械的処理,例.研摩,ポリシング,切断
C 化学;冶金
02
水,廃水,下水または汚泥の処理
F
水,廃水,下水または汚泥の処理
1
水,廃水または下水の処理
42
イオン交換によるもの
C 化学;冶金
02
水,廃水,下水または汚泥の処理
F
水,廃水,下水または汚泥の処理
1
水,廃水または下水の処理
58
特定溶存化合物の除去
出願人:
栗田工業株式会社 KURITA WATER INDUSTRIES LTD. [JP/JP]; 東京都中野区中野四丁目10番1号 10-1, Nakano 4-chome, Nakano-ku, Tokyo 1640001, JP
発明者:
森田 博志 MORITA, Hiroshi; JP
顔 暢子 GAN, Nobuko; JP
代理人:
重野 剛 SHIGENO, Tsuyoshi; JP
重野 隆之 SHIGENO, Takayuki; JP
優先権情報:
2017-08062614.04.2017JP
発明の名称: (EN) CLEANING WATER SUPPLY DEVICE
(FR) SYSTÈME D'ALIMENTATION EN EAU DE NETTOYAGE
(JA) 洗浄水供給装置
要約:
(EN) This cleaning water supply device is provided with: an ultrapure water line 1 through which a fixed amount of ultrapure water flows; a production unit 2 which adds a fixed amount of a solute into the ultrapure water line to produce a cleaning water; a cleaning water line 3 through which the cleaning water flows; cleaning machines 5A-5N to which the cleaning water is supplied from the cleaning water line 3; a solute removal unit 4 into which surplus cleaning water is introduced from the cleaning water line 3; and a recovery line 6 for returning, to a tank or the like, recovered water from which the solute has been removed.
(FR) La présente invention concerne un dispositif d'alimentation en eau de nettoyage pourvu : d'une conduite d'eau ultra-pure 1 à travers laquelle s'écoule une quantité fixe d'eau ultra-pure ; d'une unité de production 2 qui ajoute une quantité fixe d'un soluté dans la conduite d'eau ultra-pure afin de produire une eau de nettoyage ; d'une conduite d'eau de nettoyage 3 à travers laquelle s'écoule l'eau de nettoyage ; de machines de nettoyage 5A-5N auxquelles l'eau de nettoyage est fournie par la conduite d'eau de nettoyage 3 ; d'une unité d'élimination de soluté 4 dans laquelle de l'eau de nettoyage excédentaire est introduite à partir de la conduite d'eau de nettoyage 3 ; et d'une conduite de récupération 6 servant à renvoyer, vers un réservoir, ou analogue, l'eau récupérée de laquelle a été éliminé le soluté.
(JA) 洗浄水供給装置は、超純水が定量にて流れる超純水ライン1と、該超純水ラインに溶質を定量添加して洗浄水を製造する製造部2と、洗浄水を流すための洗浄水ライン3と、該洗浄水ライン3から洗浄水が供給される洗浄機5A~5Nと、余剰の洗浄水が洗浄水ライン3から導入される溶質除去部4と、溶質が除去された回収水をタンク等へ戻すための回収ライン6を有する。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)