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1. (WO2018190088) 感放射線性組成物及びレジストパターン形成方法
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国際公開番号: WO/2018/190088 国際出願番号: PCT/JP2018/011022
国際公開日: 18.10.2018 国際出願日: 20.03.2018
IPC:
G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
出願人:
JSR株式会社 JSR CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区東新橋一丁目9番2号 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640, JP
発明者:
中川 恭志 NAKAGAWA Hisashi; JP
浅野 裕介 ASANO Yusuke; JP
成岡 岳彦 NARUOKA Takehiko; JP
代理人:
天野 一規 AMANO Kazunori; JP
優先権情報:
2017-07821011.04.2017JP
発明の名称: (EN) RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
(FR) COMPOSITION SENSIBLE AU RAYONNEMENT ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS DE RÉSERVE
(JA) 感放射線性組成物及びレジストパターン形成方法
要約:
(EN) The present invention is a radiation-sensitive composition containing particles and a solvent, wherein each of the particles contains a hydrolysate of a metal compound having a hydrolyzable group, a hydrolytic condensation product of the metal compound or a combination thereof and an organic acid, an anion of the organic acid, a first compound represented by formula (1) or a combination thereof, wherein the molecular weight of each of the organic acid and the first compound is 120 or more. In formula (1), R1 represents a n-valent organic group; X represents an alcoholic hydroxyl group, -NCO or -NHRa; Ra represents a hydrogen atom or a monovalent organic group; and n represents an integer of 2 to 4.
(FR) La présente invention concerne une composition sensible au rayonnement contenant des particules et un solvant, chacune des particules contenant un hydrolysat d'un composé métallique ayant un groupe hydrolysable, un produit de condensation hydrolytique du composé métallique ou une combinaison associée et un acide organique, un anion de l'acide organique, un premier composé représenté par la formule (1) ou une combinaison associée, le poids moléculaire de chacun de l'acide organique et du premier composé étant de 120 ou plus. Dans la formule (1), R1 représente un groupe organique de valence n ; X représente un groupe hydroxyle alcoolique, -NCO ou -NHRa ; Ra représente un atome d'hydrogène ou un groupe organique monovalent ; et n représente un nombre entier variant de 2 à 4.
(JA) 本発明は、粒子と、溶媒とを含有し、上記粒子が、加水分解性基を有する金属化合物の加水分解物若しくは加水分解縮合物又はこれらの組み合わせと、有機酸若しくはこの有機酸のアニオン、下記式(1)で表される第1化合物又はこれらの組み合わせとを含み、上記有機酸及び第1化合物の分子量が120以上である感放射線性組成物である。下記式(1)中、Rは、n価の有機基である。Xは、アルコール性水酸基、-NCO又は-NHRである。Rは、水素原子又は1価の有機基である。nは、2~4の整数である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)