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1. (WO2018190079) CMP装置のウエハ保持用の弾性膜

Pub. No.:    WO/2018/190079    International Application No.:    PCT/JP2018/010815
Publication Date: Fri Oct 19 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Tue Mar 20 00:59:59 CET 2018
IPC: H01L 21/304
B24B 37/30
H01L 21/683
Applicants: MITSUBISHI CABLE INDUSTRIES, LTD.
三菱電線工業株式会社
AKROS CO., LTD.
アクロス株式会社
Inventors: YASUDA Hiroaki
安田 裕明
HAMAMURA Takehiro
浜村 武広
MAKINO Shin
牧野 真
KUBOKURA Yuzuru
窪倉 譲
Title: CMP装置のウエハ保持用の弾性膜
Abstract:
CMP装置のウエハ保持用の弾性膜(10)は、弾性材料で形成された膜本体(11)と、そのウエハ保持側の表面を被覆するように設けられたコーティング層(12)とを有する。コーティング層(12)は、高分子バインダと、その高分子バインダに分散した非金属粒子とを含む。