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1. (WO2018190077) 合成石英ガラス基板用研磨剤及びその製造方法並びに合成石英ガラス基板の研磨方法

Pub. No.:    WO/2018/190077    International Application No.:    PCT/JP2018/010756
Publication Date: Fri Oct 19 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Tue Mar 20 00:59:59 CET 2018
IPC: C09K 3/14
B24B 37/00
C03C 19/00
C09G 1/02
Applicants: SHIN-ETSU CHEMICAL CO.,LTD.
信越化学工業株式会社
Inventors: TAKAHASHI Mitsuhito
高橋 光人
NOJIMA Yoshihiro
野島 義弘
Title: 合成石英ガラス基板用研磨剤及びその製造方法並びに合成石英ガラス基板の研磨方法
Abstract:
本発明は、研磨粒子及び水を含んで成る合成石英ガラス基板用研磨剤であって、前記研磨粒子が、シリカ粒子を母体粒子とし、該母体粒子の表面に、セリウムと、セリウム以外の他の3価の希土類元素から選ばれる少なくとも1種の希土類元素との複合酸化物粒子が担持されたものであることを特徴とする合成石英ガラス基板用研磨剤である。これにより、高い研磨速度を有するとともに、研磨による欠陥の発生を十分に低減することができる合成石英ガラス基板用研磨剤が提供される。