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1. (WO2018190077) 合成石英ガラス基板用研磨剤及びその製造方法並びに合成石英ガラス基板の研磨方法
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国際公開番号: WO/2018/190077 国際出願番号: PCT/JP2018/010756
国際公開日: 18.10.2018 国際出願日: 19.03.2018
IPC:
C09K 3/14 (2006.01) ,B24B 37/00 (2012.01) ,C03C 19/00 (2006.01) ,C09G 1/02 (2006.01)
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
K
他に分類されない応用される物質;他に分類されない物質の応用
3
物質であって,他に分類されないもの
14
抗スリップ物質;研摩物質
B 処理操作;運輸
24
研削;研磨
B
研削または研磨するための機械,装置,または方法;研削面のドレッシングまたは正常化;研削剤,研磨剤,またはラッピング剤の供給
37
ラッピング機械または装置;附属装置
C 化学;冶金
03
ガラス;鉱物またはスラグウール
C
ガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグからの繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
19
繊維やフィラメントの形態をとらないガラスの,機械的手段による表面処理(ガラスのサンドブラスト,荒けずりまたはつや出しB24)
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
G
フレンチポリッシュ以外のつや出し組成物;スキーワックス
1
つや出し組成物
02
研摩剤または粉砕剤を含むもの
出願人:
信越化学工業株式会社 SHIN-ETSU CHEMICAL CO.,LTD. [JP/JP]; 東京都千代田区大手町二丁目6番1号 6-1, Ohtemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000004, JP
発明者:
高橋 光人 TAKAHASHI Mitsuhito; JP
野島 義弘 NOJIMA Yoshihiro; JP
代理人:
好宮 幹夫 YOSHIMIYA Mikio; JP
小林 俊弘 KOBAYASHI Toshihiro; JP
優先権情報:
2017-07775210.04.2017JP
発明の名称: (EN) SYNTHETIC QUARTZ GLASS SUBSTRATE POLISHING AGENT, PRODUCTION METHOD THEREFOR, AND SYNTHETIC QUARTZ GLASS SUBSTRATE POLISHING METHOD
(FR) AGENT DE POLISSAGE DE SUBSTRAT EN VERRE DE QUARTZ SYNTHÉTIQUE, SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION ET PROCÉDÉ DE POLISSAGE DE SUBSTRAT EN VERRE DE QUARTZ SYNTHÉTIQUE
(JA) 合成石英ガラス基板用研磨剤及びその製造方法並びに合成石英ガラス基板の研磨方法
要約:
(EN) The present invention provides a synthetic quartz glass substrate polishing agent comprising polishing particles and water, and is characterized in that the polishing particles comprise silica particles as base particles, on the surface of which are supported particles of a composite oxide of cerium and at least one rare-earth element selected from among trivalent rare-earth elements excluding cerium. The synthetic quartz glass substrate polishing agent has a high polishing rate and is capable of reducing the occurrence of polishing defects to a sufficient degree.
(FR) La présente invention concerne un agent de polissage de substrat en verre de quartz synthétique comprenant des particules de polissage et de l'eau, et qui est caractérisé en ce que les particules de polissage comprennent des particules de silice en tant que particules de base, sur la surface desquelles sont supportées des particules d'un oxyde de cérium composite et au moins un élément du groupe des terres rares choisi parmi les éléments trivalents du groupe des terres rares à l'exclusion du cérium. L'agent de polissage de substrat en verre de quartz synthétique présente un taux de polissage élevé et est susceptible de réduire l'apparition de défauts de polissage à un degré suffisant.
(JA) 本発明は、研磨粒子及び水を含んで成る合成石英ガラス基板用研磨剤であって、前記研磨粒子が、シリカ粒子を母体粒子とし、該母体粒子の表面に、セリウムと、セリウム以外の他の3価の希土類元素から選ばれる少なくとも1種の希土類元素との複合酸化物粒子が担持されたものであることを特徴とする合成石英ガラス基板用研磨剤である。これにより、高い研磨速度を有するとともに、研磨による欠陥の発生を十分に低減することができる合成石英ガラス基板用研磨剤が提供される。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)