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1. (WO2018189906) 有機EL表示装置の製造方法及び製造装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2018/189906 国際出願番号: PCT/JP2017/015381
国際公開日: 18.10.2018 国際出願日: 14.04.2017
IPC:
H05B 33/10 (2006.01) ,C23C 14/24 (2006.01) ,H01L 27/32 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
10
エレクトロルミネッセンス光源の製造に特に適用する装置または方法
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
24
真空蒸着
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
27
1つの共通基板内または上に形成された複数の半導体構成部品または他の固体構成部品からなる装置
28
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる構成部品を含むもの
32
光放出に特に適用される構成部品を有するもの,例.有機発光ダイオードを使用したフラットパネル・ディスプレイ
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50
光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
出願人:
堺ディスプレイプロダクト株式会社 SAKAI DISPLAY PRODUCTS CORPORATION [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumicho, Sakai-ku, Sakai-shi, Osaka 5908522, JP
発明者:
岸本 克彦 KISHIMOTO, Katsuhiko; JP
代理人:
特許業務法人朝日奈特許事務所 ASAHINA & CO.; 大阪府大阪市中央区谷町二丁目2番22号 NSビル NS Building, 2-22, Tanimachi 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5400012, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) PRODUCTION METHOD AND PRODUCTION DEVICE FOR ORGANIC EL DISPLAY DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION ET DISPOSITIF DE PRODUCTION DE DISPOSITIF D'AFFICHAGE ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE
(JA) 有機EL表示装置の製造方法及び製造装置
要約:
(EN) According to one embodiment, the production method for an organic EL display device involves performing a reforming treatment on a vapor deposition mask at a surface thereof that faces a vapor deposition source (S2), mounting a support substrate on one surface of the vapor deposition mask (S3), spattering a desired organic material at the vapor deposition mask so as to form an organic layer that comprises a plurality of layers at a desired location on the support substrate (S4), and forming a second electrode on the organic layer (S8). Before the formation of the organic layer that comprises a plurality of layers, before or after the formation of each of the layers of the organic layer that comprises a plurality of layers, and/or before the formation of the second electrode, an exposed surface of the vapor deposition mask or an exposed surface of the organic layer that has been formed on the vapor deposition mask is reformed.
(FR) Selon un mode de réalisation, le procédé de production d'un dispositif d'affichage électroluminescent organique consiste à réaliser un traitement de reformage sur un masque de dépôt en phase vapeur au niveau d'une surface de celui-ci qui fait face à une source de dépôt en phase vapeur (S2), à monter un substrat de support sur une surface du masque de dépôt en phase vapeur (S3), à projeter un matériau organique souhaité au niveau du masque de dépôt en phase vapeur de manière à former une couche organique qui comprend une pluralité de couches à un emplacement souhaité sur le substrat de support (S4), et à former une seconde électrode sur la couche organique (S8). Avant la formation de la couche organique qui comprend une pluralité de couches, avant ou après la formation de chacune des couches de la couche organique qui comprend une pluralité de couches, et/ou avant la formation de la seconde électrode, une surface exposée du masque de dépôt en phase vapeur ou une surface exposée de la couche organique qui a été formée sur le masque de dépôt en phase vapeur est reformée.
(JA) 一実施形態の有機EL表示装置の製造方法は、蒸着源と対向する面に改質処理が施された(S2)蒸着マスクの一面に支持基板が装着され(S3)、蒸着マスクに向かって所望の有機材料を飛散させることで支持基板の所望の場所に複数層からなる有機層が積層され(S4)、有機層の上に第2電極が形成される(S8)。そして、複数層からなる有機層の積層の前、複数層からなる有機層の各有機層の積層の前又は後、及び前記第2電極の形成の前の少なくとも1つのタイミングで、蒸着マスクの露出面又は蒸着マスクに形成された有機層の露出面が改質される。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)