このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2018189833) 蒸着装置、蒸着方法及び有機EL表示装置の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/189833 国際出願番号: PCT/JP2017/014996
国際公開日: 18.10.2018 国際出願日: 12.04.2017
IPC:
C23C 14/04 (2006.01) ,H01L 27/32 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
04
選択された表面部分の被覆,例.マスクを用いるもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
27
1つの共通基板内または上に形成された複数の半導体構成部品または他の固体構成部品からなる装置
28
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる構成部品を含むもの
32
光放出に特に適用される構成部品を有するもの,例.有機発光ダイオードを使用したフラットパネル・ディスプレイ
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50
光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
10
エレクトロルミネッセンス光源の製造に特に適用する装置または方法
出願人:
堺ディスプレイプロダクト株式会社 SAKAI DISPLAY PRODUCTS CORPORATION [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1, Takumicho, Sakai-ku, Sakai-shi, Osaka 5908522, JP
発明者:
岸本 克彦 KISHIMOTO, Katsuhiko; JP
代理人:
特許業務法人朝日奈特許事務所 ASAHINA & CO.; 大阪府大阪市中央区谷町二丁目2番22号 NSビル NS Building, 2-22, Tanimachi 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5400012, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) VAPOR DEPOSITION DEVICE, VAPOR DEPOSITION METHOD, AND PRODUCTION METHOD FOR ORGANIC EL DISPLAY DEVICE
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN DISPOSITIF D'AFFICHAGE EL ORGANIQUE
(JA) 蒸着装置、蒸着方法及び有機EL表示装置の製造方法
要約:
(EN) The vapor deposition device disclosed in the embodiments is structured such that an electromagnet (3) is used to attract a vapor deposition mask (1). The electromagnet (3) includes: a first electromagnet (3A) that generates a magnetic field in a first direction; and a second electromagnet (3B) that generates a magnetic field in a second direction that is opposite the first direction. When current is applied, simultaneous activation of the first and second electromagnets (3A, 3B) weakens the generated magnetic field. If the second electromagnet (3B) is then turned off, the original magnetic field can be achieved. As a result, the effects of electromagnetic induction are suppressed, as are defects in an element, etc. that is formed on a vapor deposition substrate and degradation of element characteristics. Deactivation of the second electromagnet after current has been applied makes it possible to achieve normal attractive force.
(FR) Selon des modes de réalisation, la présente invention concerne un dispositif de dépôt en phase vapeur caractérisé en ce qu'il utilise un électro-aimant (3) pour attirer un masque en dépôt en phase vapeur (1). L'électro-aimant (3) comprend : un premier électro-aimant (3A) qui génère un champ magnétique dans une première direction ; et un second électro-aimant (3B) qui génère un champ magnétique dans une seconde direction, à l'opposé de la première. Quand un courant est appliqué, l'activation simultanée des premier et second électro-aimants (3A, 3B) affaiblit le champ magnétique généré. Si le second électro-aimant (3B) est alors désactivé, le champ magnétique d'origine peut être restitué. Les effets de l'induction électromagnétique sont par conséquent supprimés, ainsi que les défauts dans un élément, etc. qui est formé sur un substrat par dépôt en phase vapeur et la dégradation des caractéristiques dudit élément. La désactivation du second électro-aimant après application du courant permet d'obtenir une force d'attraction normale.
(JA) 実施形態により開示される蒸着装置は、電磁石(3)によって蒸着マスク(1)が吸着される構造になっており、電磁石(3)が第1の方向の磁界を発生させる第1の電磁石(3A)と第1の方向とは逆方向の第2の方向の磁界を発生させる第2の電磁石(3B)を含んでいる。その結果、電流の投入時に第1及び第2の電磁石(3A、3B)を同時に動作させることによって、発生する磁界を弱くし、その後に第2の電磁石(3B)をオフにすれば、本来の磁界が得られる。その結果、電磁誘導の影響が抑制され、被蒸着基板に形成される素子などの不良や、素子特性の劣化を抑制される。一方で、電流投入後に第2の電磁石の動作をオフにすることによって、通常の吸着力が得られる。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)