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1. (WO2018189816) 露光装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報

国際公開番号: WO/2018/189816 国際出願番号: PCT/JP2017/014879
国際公開日: 18.10.2018 国際出願日: 11.04.2017
IPC:
H01L 21/027 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,H01J 37/305 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
027
その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループ21/18または21/34に分類されないもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
H 電気
01
基本的電気素子
J
電子管または放電ランプ
37
放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
30
物体の局所的な処理のための電子ビームまたはイオンビーム管
305
鋳造する,溶かす,脱水するまたはエッチングするためのもの
出願人:
株式会社アドバンテスト ADVANTEST CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区丸の内1丁目6番2号 1-6-2, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005, JP
発明者:
清水 陽一 SHIMIZU Youichi; JP
田中 仁 TANAKA Hitoshi; JP
代理人:
龍華国際特許業務法人 RYUKA IP LAW FIRM; 東京都新宿区西新宿1-6-1 新宿エルタワー22階 22F, Shinjuku L Tower, 1-6-1, Nishi-Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo 1631522, JP
優先権情報:
発明の名称: (EN) EXPOSURE DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'EXPOSITION
(JA) 露光装置
要約:
(EN) Provided is an exposure device comprising: a barrel that is decompressed such that the interior thereof reaches a vacuum state; a plurality of charged particle beam sources that are provided inside the barrel and that respectively emit a plurality of charged particle beams in an extending direction of the barrel; a plurality of electromagnetic optical elements that are provided inside the barrel so as to correspond respectively to the plurality of charged particle beams, the electromagnetic optical elements respectively controlling the charged particle beams; a first partitioning wall and a second partitioning wall that are arranged inside the barrel so as to be separated from one another in the extending direction, and that form a non-vacuum space in at least a portion therebetween; and a decompression pump that decompresses the non-vacuum space in contact with the first partitioning wall and the non-vacuum space in contact with the second partitioning wall to a pressure between a vacuum and the atmosphere.
(FR) La présente invention concerne un dispositif d'exposition comprenant : un cylindre qui est décomprimé de telle sorte que son intérieur atteigne un état de vide ; une pluralité de sources de faisceau de particules chargées disposées à l'intérieur du cylindre et qui émettent respectivement une pluralité de faisceaux de particules chargées dans une direction d'extension du cylindre ; une pluralité d'éléments optiques électromagnétiques disposés à l'intérieur du cylindre de façon à correspondre respectivement à la pluralité de faisceaux de particules chargées, les éléments optiques électromagnétiques commandant respectivement les faisceaux de particules chargées ; une première paroi de séparation et une seconde paroi de séparation qui sont disposées à l'intérieur du cylindre de façon à être séparées l'une de l'autre dans la direction d'extension et qui forment un espace sans vide dans au moins une partie entre elles ; et une pompe de décompression qui décomprime l'espace sans vide en contact avec la première paroi de séparation et l'espace sans vide en contact avec la seconde paroi de séparation à une pression comprise entre le vide et la pression atmosphérique.
(JA) 内部が真空状態となるように減圧される鏡筒と、鏡筒内に設けられ、鏡筒の延伸方向に複数の荷電粒子ビームを放出する複数の荷電粒子ビーム源と、鏡筒内において複数の荷電粒子ビームのそれぞれに対応して設けられ、各荷電粒子ビームをそれぞれ制御する複数の電磁光学素子と、鏡筒内において延伸方向に互いに離間して配置され、互いの間の少なくとも一部に非真空空間を形成する第1隔壁および第2隔壁と、第1隔壁と接する非真空空間および第2隔壁と接する非真空空間を真空と大気との間の気圧に減圧する減圧ポンプと、を備える露光装置を提供する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)