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1. (WO2018186197) 固体撮像装置、及び電子機器
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国際公開番号: WO/2018/186197 国際出願番号: PCT/JP2018/011570
国際公開日: 11.10.2018 国際出願日: 23.03.2018
IPC:
H01L 27/146 (2006.01) ,H01L 21/02 (2006.01) ,H01L 21/3205 (2006.01) ,H01L 21/768 (2006.01) ,H01L 23/522 (2006.01) ,H01L 25/065 (2006.01) ,H01L 25/07 (2006.01) ,H01L 25/18 (2006.01) ,H04N 5/369 (2011.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
27
1つの共通基板内または上に形成された複数の半導体構成部品または他の固体構成部品からなる装置
14
赤外線,可視光,短波長の電磁波または粒子線輻射に感応する半導体構成部品で,これらの輻射線エネルギーを電気的エネルギーに変換するかこれらの輻射線によって電気的エネルギーを制御するかのどちらかに特に適用されるもの
144
輻射線によって制御される装置
146
固体撮像装置構造
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
31
半導体本体上への絶縁層の形成,例.マスキング用またはフォトリソグラフィック技術の使用によるもの;これらの層の後処理;これらの層のための材料の選択
3205
絶縁層へ非絶縁層,例.導電層または抵抗層,の付着;これらの層の後処理
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
70
1つの共通基板内または上に形成された複数の固体構成部品または集積回路からなる装置またはその特定部品の製造または処理;集積回路装置またはその特定部品の製造
71
グループ21/70で限定された装置の特定部品の製造
768
装置内の別個の構成部品間に電流を流すため使用する相互接続を適用するもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
23
半導体または他の固体装置の細部
52
動作中の装置内の1つの構成部品から他の構成部品へ電流を導く装置
522
半導体本体上に分離できないように形成された導電層及び絶縁層の多層構造からなる外部の相互接続を含むもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
25
複数の個々の半導体または他の固体装置からなる組立体
03
すべての装置がグループ27/00~51/00の同じサブグループに分類される型からなるもの,例.整流ダイオードの組立体
04
個別の容器を持たない装置
065
装置がグループ27/00に分類された型からなるもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
25
複数の個々の半導体または他の固体装置からなる組立体
03
すべての装置がグループ27/00~51/00の同じサブグループに分類される型からなるもの,例.整流ダイオードの組立体
04
個別の容器を持たない装置
07
装置がグループ29/00に分類された型からなるもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
25
複数の個々の半導体または他の固体装置からなる組立体
18
装置がグループ27/00~51/00の同じメイングループの2つ以上の異なるサブグループに分類される型からなるもの
H 電気
04
電気通信技術
N
画像通信,例.テレビジョン
5
テレビジョン方式の細部
30
光または類似信号から電気信号への変換
335
固体撮像素子を用いるもの
369
固体撮像素子の構造,固体撮像素子と関連する回路に特徴のあるもの
出願人:
ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 SONY SEMICONDUCTOR SOLUTIONS CORPORATION [JP/JP]; 神奈川県厚木市旭町四丁目１４番１号 4-14-1, Asahi-cho, Atsugi-shi, Kanagawa 2430014, JP
発明者:
亀嶋　隆季 KAMESHIMA, Takatoshi; JP
橋口　日出登 HASHIGUCHI, Hideto; JP
三橋　生枝 MITSUHASHI, Ikue; JP
堀越　浩 HORIKOSHI, Hiroshi; JP
庄子　礼二郎 SHOHJI, Reijiroh; JP
石田　実 ISHIDA, Minoru; JP
飯島　匡 IIJIMA, Tadashi; JP
羽根田　雅希 HANEDA, Masaki; JP
代理人:
亀谷　美明 KAMEYA, Yoshiaki; JP
金本　哲男 KANEMOTO, Tetsuo; JP
萩原　康司 HAGIWARA, Yasushi; JP
松本　一騎 MATSUMOTO, Kazunori; JP
優先権情報:
2017-07480904.04.2017JP
2017-15763717.08.2017JP
発明の名称: (EN) SOLID STATE IMAGING DEVICE AND ELECTRONIC APPARATUS
(FR) DISPOSITIF D'IMAGERIE À SEMI-CONDUCTEUR ET APPAREIL ÉLECTRONIQUE
(JA) 固体撮像装置、及び電子機器
要約:
(EN) [Problem] To improve the performance of a solid state imaging device. [Solution] A solid state imaging device that is formed by laminating, in order, a first substrate, a second substrate, and a third substrate. The first substrate has: a first semiconductor substrate that has formed thereon a pixel unit that comprises an array of pixels; and a first multilayer wiring layer that is laminated upon the first semiconductor substrate. The second substrate has: a second semiconductor substrate that has formed thereon a circuit that has a prescribed function; and a second multilayer wiring layer that is laminated upon the second semiconductor substrate. The third substrate has: a third semiconductor substrate that has formed thereon a circuit that has a prescribed function; and a third multilayer wiring layer that is laminated upon the third semiconductor substrate. The first substrate and the second substrate are adhered to each other such that the first multilayer wiring layer and the second multilayer wiring layer face. A first connection structure that is for electrically connecting two of the first substrate, the second substrate, and the third substrate includes a via that is structured such that a conductive material is embedded in or formed as a film on inner walls of: a first through hole that exposes first wiring that is included in one of the first multilayer wiring layer, the second multilayer wiring layer, and the third multilayer wiring layer; and another through hole that exposes second wiring that is included in a multilayer wiring layer that is among the first multilayer wiring layer, the second multilayer wiring layer, and the third multilayer wiring layer and does not include the first wiring.
(FR) Le problème décrit par la présente invention est d'améliorer les performances d'un dispositif d'imagerie à semi-conducteur. La solution selon l'invention porte sur un dispositif d'imagerie à semi-conducteur qui est formé par stratification, dans l'ordre, d'un premier substrat, d'un second substrat et d'un troisième substrat. Le premier substrat comprend : un premier substrat semi-conducteur sur lequel est formée une unité de pixel qui comprend une matrice de pixels; et une première couche de câblage multicouche qui est stratifiée sur le premier substrat semi-conducteur. Le second substrat comprend : un second substrat semi-conducteur sur lequel est formé un circuit qui a une fonction prescrite; et une seconde couche de câblage multicouche qui est stratifiée sur le second substrat semi-conducteur. Le troisième substrat comporte : un troisième substrat semi-conducteur sur lequel est formé un circuit qui a une fonction prescrite; et une troisième couche de câblage multicouche qui est stratifiée sur le troisième substrat semi-conducteur. Le premier substrat et le second substrat sont collés l'un à l'autre de telle sorte que la première couche de câblage multicouche et la seconde couche de câblage multicouche se font face. Une première structure de connexion qui est destinée à connecter électriquement deux du premier substrat, du second substrat et du troisième substrat comprend un trou d'interconnexion qui est structuré de telle sorte qu'un matériau conducteur est intégré ou formé sous la forme d'un film sur les parois internes de: un premier trou traversant qui expose un premier câblage qui est inclus dans l'une de la première couche de câblage multicouche, la seconde couche de câblage multicouche et la troisième couche de câblage multicouche; et un autre trou traversant qui expose un second câblage qui est inclus dans une couche de câblage multicouche qui est parmi la première couche de câblage multicouche, la seconde couche de câblage multicouche et la troisième couche de câblage multicouche et ne comprend pas le premier câblage.
(JA) 【課題】固体撮像装置の性能をより向上させる。 【解決手段】画素が配列された画素部が形成された第１半導体基板と、前記第１半導体基板上に積層された第１多層配線層と、を有する第１基板と、所定の機能を有する回路が形成された第２半導体基板と、前記第２半導体基板上に積層された第２多層配線層と、を有する第２基板と、所定の機能を有する回路が形成された第３半導体基板と、前記第３半導体基板上に積層された第３多層配線層と、を有する第３基板と、がこの順に積層されて構成され、前記第１基板と前記第２基板とは、前記第１多層配線層と前記第２多層配線層とが対向するように貼り合わされ、前記第１基板、前記第２基板、及び前記第３基板のうちのいずれか２つを電気的に接続するための第１の接続構造は、ビアを含み、前記ビアは、前記第１多層配線層、前記第２多層配線層、及び前記第３多層配線層のうちのいずれかに含まれる第１の配線を露出させるように設けられる一の貫通孔と、前記第１多層配線層、前記第２多層配線層、及び前記第３多層配線層のうちの前記第１の配線が含まれる多層配線層以外のいずれかに含まれる第２の配線を露出させるように設けられる他の貫通孔と、に導電材料が埋め込まれた構造、又はこれらの貫通孔の内壁に導電材料が成膜された構造、を有する、固体撮像装置を提供する。
 front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)