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1. (WO2018186114) 固体撮像素子用組成物及び固体撮像素子用赤外線遮蔽膜の形成方法
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国際公開番号: WO/2018/186114 国際出願番号: PCT/JP2018/009555
国際公開日: 11.10.2018 国際出願日: 12.03.2018
IPC:
G02B 5/22 (2006.01) ,C09B 23/00 (2006.01) ,C09B 47/12 (2006.01) ,C09B 47/18 (2006.01) ,H01L 27/146 (2006.01)
G 物理学
02
光学
B
光学要素,光学系,または光学装置
5
レンズ以外の光学要素
20
フィルター
22
吸収フィルター
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
B
有機染料または染料製造に密接な関連を有する化合物;媒染剤;レーキ
23
メチン又はポリメチン染料,例.シアニン染料
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
B
有機染料または染料製造に密接な関連を有する化合物;媒染剤;レーキ
47
ポルフィン;アザポルフィン
04
フタロシアニン
08
その他のフタロシアニン化合物からの製造
12
フタロシアニン核に結合したアルキル基または炭素以外の原子で置換されたアルキル基を有する化合物の製造
C 化学;冶金
09
染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
B
有機染料または染料製造に密接な関連を有する化合物;媒染剤;レーキ
47
ポルフィン;アザポルフィン
04
フタロシアニン
08
その他のフタロシアニン化合物からの製造
18
フタロシアニン核に直接結合した酸素原子を有する化合物
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
27
1つの共通基板内または上に形成された複数の半導体構成部品または他の固体構成部品からなる装置
14
赤外線,可視光,短波長の電磁波または粒子線輻射に感応する半導体構成部品で,これらの輻射線エネルギーを電気的エネルギーに変換するかこれらの輻射線によって電気的エネルギーを制御するかのどちらかに特に適用されるもの
144
輻射線によって制御される装置
146
固体撮像装置構造
出願人:
JSR株式会社 JSR CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区東新橋一丁目9番2号 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640, JP
発明者:
畠山 耕治 HATAKEYAMA Kouji; JP
村田 裕亮 MURATA Yuusuke; JP
嶋田 遵生子 SHIMADA Mibuko; JP
代理人:
天野 一規 AMANO Kazunori; JP
優先権情報:
2017-07703107.04.2017JP
発明の名称: (EN) COMPOSITION FOR SOLID-STATE IMAGING ELEMENT AND METHOD FOR FORMING INFRARED-SHIELDING FILM FOR SOLID-STATE IMAGING ELEMENT
(FR) COMPOSITION POUR ÉLÉMENT D'IMAGERIE À SEMI-CONDUCTEURS ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN FILM DE PROTECTION CONTRE LES INFRAROUGES POUR ÉLÉMENT D'IMAGERIE À SEMI-CONDUCTEURS
(JA) 固体撮像素子用組成物及び固体撮像素子用赤外線遮蔽膜の形成方法
要約:
(EN) The present invention is a composition for a solid-state imaging element including an inorganic compound, a polymer, an organic pigment, and a solvent, wherein the amine value of the polymer is 90 mg KOH/g to 200 mg KOH/g, the solvent includes a specific solvent having a solubility parameter of 8.8 to 12.0, the content of the specific solvent with respect to the entire amount of the composition for a solid-state imaging element is 40% by mass to 90% by mass, and the solubility of the organic pigment in the solvent at 20°C and 0.1 MPa is 2% by mass or greater.
(FR) La présente invention concerne une composition pour un élément d'imagerie à semi-conducteurs comprenant un composé inorganique, un polymère, un pigment organique et un solvant, la valeur d'amine du polymère étant de 90 mg KOH/g à 200 mg KOH/g, le solvant comprenant un solvant spécifique ayant un paramètre de solubilité de 8,8 à 12,0, la teneur en solvant spécifique par rapport à la quantité totale de la composition pour un élément d'imagerie à semi-conducteurs étant de 40 % en masse à 90 % en masse, et la solubilité du pigment organique dans le solvant à 20 °C et 0,1 MPa étant supérieure ou égale à 2 % en masse.
(JA) 本発明は、無機化合物、重合体、有機色素及び溶媒を含む固体撮像素子用組成物において、上記重合体のアミン価が、90mgKOH/g以上200mgKOH/g以下であり、上記溶媒が、溶解度パラメーターが8.8以上12.0以下の特定溶媒を含み、上記特定溶媒の上記固体撮像素子用組成物全体に対する含有量が、40質量%以上90質量%以下であり、20℃、0.1MPaにおける上記溶媒への上記有機色素の溶解度が、2質量%以上である固体撮像素子用組成物である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)