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1. (WO2018185998) 吸着仮固定シートおよびその製造方法
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国際公開番号: WO/2018/185998 国際出願番号: PCT/JP2018/001754
国際公開日: 11.10.2018 国際出願日: 22.01.2018
IPC:
C08J 9/28 (2006.01) ,B29C 67/20 (2006.01) ,B32B 5/18 (2006.01)
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
J
仕上げ;一般的混合方法;サブクラスC08B,C08C,C08F,C08GまたはC08Hに包含されない後処理(プラスチックの加工,例.成形B29)
9
多孔性または海綿状の物品または物質にするための高分子物質の処理;その後処理
28
高分子組成物または物品から液相の除去,例.凝固物の乾燥
B 処理操作;運輸
29
プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
C
プラスチックの成形または接合;可塑状態の物質の成形一般;成形品の後処理,例.補修
67
グループ39/00から65/00,70/00あるいは73/00に展開されない成形技術
20
多孔質または細胞質物品のための,例.孔の粗い発泡プラスチックの
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
5
層の不均質または物理的な構造を特徴とする積層体
18
発泡材料または特に多孔性の材料を含む層を特徴とするもの
出願人:
日東電工株式会社 NITTO DENKO CORPORATION [JP/JP]; 大阪府茨木市下穂積1丁目1番2号 1-1-2, Shimohozumi, Ibaraki-shi, Osaka 5678680, JP
発明者:
伊関 亮 ISEKI Toru; JP
土井 浩平 DOI Kohei; null
金田 充宏 KANADA Mitsuhiro; JP
加藤 和通 KATO Kazumichi; JP
徳山 英幸 TOKUYAMA Hideyuki; JP
代理人:
籾井 孝文 MOMII Takafumi; JP
優先権情報:
2017-07547505.04.2017JP
発明の名称: (EN) ADSORPTIVE TEMPORARY FIXING SHEET AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) FEUILLE DE FIXATION TEMPORAIRE PAR ASPIRATION, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELLE-CI
(JA) 吸着仮固定シートおよびその製造方法
要約:
(EN) Provided is an adsorptive temporary fixing sheet having sufficient shear adhesive force in the same direction as a surface, and having weak adhesive force in the vertical direction relative to the surface. In addition, a method for manufacturing such an adsorptive temporary fixing sheet is provided. This adsorptive temporary fixing sheet has a foam layer comprising a interconnecting cell structure, wherein V1 < H1, V2, < H2, and V3 < H3 are satisfied, where V1 (N/1cm2) is the silicon chip vertical adhesive force of the surface of the foam layer after 20 hours at -40°C, V2 (N/1cm2) is the silicon chip vertical adhesive force of same after 20 hours at 23°C, V3 (N/1cm2) is the silicon chip vertical adhesive force of same after 20 hours at 125°C, H1 (N/1cm2) is the silicon chip shear adhesive force of the surface of the foam layer after 20 hours at -40°C, H2 (N/1cm2) is the silicon chip shear adhesive force of same after 20 hours at 23°C, and H3 (N/1cm2) is the silicon chip shear adhesive force of same after 20 hours at 125°C.
(FR) L’invention fournit une feuille de fixation temporaire par aspiration qui possède une force d’adhésion au cisaillement suffisante dans la même direction que sa surface, et qui possède une force d’adhésion faible dans une direction perpendiculaire à sa surface. En outre, l’invention fournit un procédé de fabrication d’une telle feuille de fixation temporaire par aspiration. La feuille de fixation temporaire par aspiration de l’invention possède une couche de mousse équipée d’une structure en alvéoles ouvertes. Lorsqu’une force d’adhésion perpendiculaire à une puce de silicium de la surface de la couche de mousse après 20 heures à -40°C est représentée par V1(N/1cm2), qu’une force d’adhésion perpendiculaire à la puce de silicium après 20 heures à -23°C est représentée par V2(N/1cm2), et qu’une force d’adhésion perpendiculaire à la puce de silicium après 20 heures à -25°C est représentée par V3(N/1cm2), et lorsqu’une force d’adhésion au cisaillement de puce de silicium de la surface de la couche de mousse après 20 heures à -40°C est représentée par H1(N/1cm2), qu’une force d’adhésion au cisaillement de puce de silicium après 20 heures à -23°C est représentée par H2(N/1cm2), et qu’une force d’adhésion au cisaillement de puce de silicium après 20 heures à -125°C est représentée par H3(N/1cm2), alors V1<H1, V2<H2 et V3<H3.
(JA) 表面と同じ方向には十分なせん断接着力を有し、表面に対して垂直方向には弱い接着力を有する、吸着仮固定シートを提供する。また、そのような吸着仮固定シートの製造方法を提供する。 本発明の吸着仮固定シートは、連続気泡構造を備える発泡層を有する吸着仮固定シートであって、該発泡層の表面の、-40℃で20時間後のシリコンチップ垂直接着力をV1(N/1cm□)、23℃で20時間後のシリコンチップ垂直接着力をV2(N/1cm□)、125℃で20時間後のシリコンチップ垂直接着力をV3(N/1cm□)とし、該発泡層の表面の、-40℃で20時間後のシリコンチップせん断接着力をH1(N/1cm□)、23℃で20時間後のシリコンチップせん断接着力をH2(N/1cm□)、125℃で20時間後のシリコンチップせん断接着力をH3(N/1cm□)としたとき、V1<H1、V2<H2、V3<H3である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)