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1. (WO2018181985) パターン算出装置、パターン算出方法、マスク、露光装置、デバイス製造方法、コンピュータプログラム、及び、記録媒体
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国際公開番号: WO/2018/181985 国際出願番号: PCT/JP2018/013852
国際公開日: 04.10.2018 国際出願日: 30.03.2018
IPC:
G03F 1/70 (2012.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
1
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造に用いる原稿,例.マスク,フォトマスク又はレチクル;そのためのマスクブランク又はペリクル;特にそれに適合した容器;その準備
68
グループG03F1/20からG03F1/50に包含されない準備プロセス
70
マスクの基本的レイアウト又はデザインをリソグラフィプロセスの要求に適合させること,例.画像化のためのマスクパターンの再修正
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
出願人:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
発明者:
加藤 正紀 KATO, Masaki; JP
戸口 学 TOGUCHI, Manabu; JP
代理人:
江上 達夫 EGAMI, Tatsuo; JP
優先権情報:
2017-07302431.03.2017JP
発明の名称: (EN) PATTERN CALCULATION APPARATUS, PATTERN CALCULATION METHOD, MASK, EXPOSURE APPARATUS, DEVICE PRODUCTION METHOD, COMPUTER PROGRAM, AND RECORDING MEDIUM
(FR) APPAREIL DE CALCUL DE MOTIF, PROCÉDÉ DE CALCUL DE MOTIF, MASQUE, APPAREIL D'EXPOSITION, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF, PROGRAMME D'ORDINATEUR ET SUPPORT D'ENREGISTREMENT
(JA) パターン算出装置、パターン算出方法、マスク、露光装置、デバイス製造方法、コンピュータプログラム、及び、記録媒体
要約:
(EN) A pattern calculation apparatus (2) calculates a mask pattern (1311d) formed on a mask (131) for forming, on a substrate (151) using exposure light (EL), a device pattern in which a plurality of unit device pattern sections (1511u) are arranged. The pattern calculation apparatus calculates unit mask pattern sections (1311u) for forming one unit device pattern section, calculates a mask pattern by arranging a plurality of calculated unit mask pattern sections, and when calculating the unit mask pattern sections, calculates the unit mask pattern sections assuming that a specific mask pattern section (1311n) corresponding to at least a portion of the unit mask pattern sections is adjacent to the unit mask pattern sections.
(FR) L'invention concerne un appareil de calcul de motif (2) qui calcule un motif de masque (1311d) formé sur un masque (131) permettant de former, sur un substrat (151) à l'aide d'une lumière d'exposition (EL), un motif de dispositif dans lequel est placée une pluralité de sections de motif de dispositif unitaires (1511u). L'appareil de calcul de motif calcule des sections de motif de masque unitaires (1311u) permettant de former une section de motif de dispositif unitaire, calcule un motif de masque en plaçant une pluralité de sections de motif de masque unitaires calculées, et lors du calcul des sections de motif de masque unitaires, calcule les sections de motif de masque unitaires en supposant qu'une section de motif de masque spécifique (1311n) correspondant au moins à une partie des sections de motif de masque unitaires est adjacente aux sections de motif de masque unitaires.
(JA) パターン算出装置(2)は、単位デバイスパターン部(1511u)が複数配列されているデバイスパターンを露光光(EL)で基板(151)に形成するためのマスク(131)に形成されるマスクパターン(1311d)を算出するパターン算出装置である。パターン算出装置は、一の単位デバイスパターン部を形成するための単位マスクパターン部(1311u)を算出し、且つ、算出した単位マスクパターン部を複数配列することでマスクパターンを算出し、単位マスクパターン部を算出する際に、単位マスクパターン部の少なくとも一部に相当する特定マスクパターン部(1311n)が単位マスクパターン部に隣接していると仮定した上で、単位マスクパターン部を算出する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)