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1. (WO2018181969) 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、蒸着マスク準備体、蒸着パターン形成方法および有機半導体素子の製造方法

Pub. No.:    WO/2018/181969    International Application No.:    PCT/JP2018/013798
Publication Date: Fri Oct 05 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Sat Mar 31 01:59:59 CEST 2018
IPC: C23C 14/04
H01L 51/50
H05B 33/10
Applicants: DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
大日本印刷株式会社
Inventors: SONE Yasuko
曽根 康子
KAWASAKI Hiroshi
川崎 博司
HIROBE Yoshinori
廣部 吉紀
OBATA Katsunari
小幡 勝也
NARITA Asako
成田 亜沙子
ISHIRO Hitoshi
居城 均
HATSUTA Chiaki
初田 千秋
Title: 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、蒸着マスク準備体、蒸着パターン形成方法および有機半導体素子の製造方法
Abstract:
金属マスク開口部が設けられた金属マスクと、前記金属マスク開口部と重なる位置に蒸着作製するパターンに対応した樹脂マスク開口部が設けられた樹脂マスクとが積層されてなる蒸着マスクであって、前記金属マスク開口部から露出する前記樹脂マスクの表面の算術平均高さ(Sa)が0.8μm以下である。