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1. (WO2018181893) 感光性樹脂組成物、パターン硬化物の製造方法、硬化物、層間絶縁膜、カバーコート層、表面保護膜及び電子部品
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国際公開番号: WO/2018/181893 国際出願番号: PCT/JP2018/013598
国際公開日: 04.10.2018 国際出願日: 30.03.2018
IPC:
G03F 7/027 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
出願人:
日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 HITACHI CHEMICAL DUPONT MICROSYSTEMS, LTD. [JP/JP]; 東京都文京区後楽一丁目4番25号 4-25, Koraku 1-chome, Bunkyo-ku, Tokyo 1120004, JP
発明者:
土屋 越晴 TSUCHIYA, Etsuharu; JP
榎本 哲也 ENOMOTO, Tetsuya; JP
川守 崇司 KAWAMORI, Takashi; JP
斉藤 伸行 SAITO, Nobuyuki; JP
鯉渕 由香里 KOIBUCHI, Yukari; JP
吉澤 篤太郎 YOSHIZAWA, Atsutaro; JP
朝田 皓 ASADA, Akira; JP
代理人:
特許業務法人平和国際特許事務所 HEIWA INTERNATIONAL PATENT OFFICE; 東京都千代田区神田須田町一丁目26番地 芝信神田ビル3階 Shibashin Kanda Bldg. 3rd Floor, 26, Kanda Suda-cho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010041, JP
優先権情報:
PCT/JP2017/01372931.03.2017JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN CURED PRODUCT, CURED PRODUCT, INTERLAYER INSULATING FILM, COVER-COAT LAYER, SURFACE PROTECTIVE FILM, AND ELECTRONIC COMPONENT
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE , PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE FILMS DURCIS À MOTIFS, PRODUIT DURCI, FILM ISOLANT INTERCOUCHE, COUCHE DE REVÊTEMENT DE COUVERTURE, FILM PROTECTEUR DE SURFACE ET COMPOSANT ÉLECTRONIQUE
(JA) 感光性樹脂組成物、パターン硬化物の製造方法、硬化物、層間絶縁膜、カバーコート層、表面保護膜及び電子部品
要約:
(EN) Provided is a photosensitive resin composition containing (A) a polyimide precursor having a polymerizable unsaturated bond, (B) a polymerizable monomer having an alicyclic skeleton, (C) a photopolymerization initiator, and (D) a solvent.
(FR) L'invention concerne une composition de résine photosensible contenant (A) un précurseur polyimide ayant une liaison insaturée polymérisable, (B) un monomère polymérisable ayant un squelette alicyclique, (C) un initiateur de photopolymérisation, et (D) un solvant.
(JA) (A)重合性の不飽和結合を有するポリイミド前駆体、 (B)脂肪族環状骨格を有する重合性モノマー、 (C)光重合開始剤、及び (D)溶剤を含有する感光性樹脂組成物。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)