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1. (WO2018181809) 処理装置および処理方法
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国際公開番号: WO/2018/181809 国際出願番号: PCT/JP2018/013444
国際公開日: 04.10.2018 国際出願日: 29.03.2018
IPC:
H01L 21/306 (2006.01) ,B08B 3/02 (2006.01) ,H01L 21/208 (2006.01) ,H01L 21/304 (2006.01)
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
302
表面の物理的性質または形状を変換するため,例.エッチング,ポリシング,切断
306
化学的または電気的処理,例.電解エッチング
B 処理操作;運輸
08
清掃
B
清掃一般;汚れ防止一般
3
液体または蒸気の使用または存在を含む方法による清掃
02
ジェットまたはスプレーの力による清掃
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
20
基板上への半導体材料の析出,例.エピタキシャル成長
208
液相成長を用いるもの
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02
半導体装置またはその部品の製造または処理
04
少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18
不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期律表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30
21/20~21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
302
表面の物理的性質または形状を変換するため,例.エッチング,ポリシング,切断
304
機械的処理,例.研摩,ポリシング,切断
出願人:
株式会社FLOSFIA FLOSFIA INC. [JP/JP]; 京都府京都市西京区御陵大原1番29号 1-29, Goryoohara, Nishikyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6158245, JP
発明者:
柳生 慎悟 YAGYU Shingo; JP
人羅 俊実 HITORA Toshimi; JP
優先権情報:
2017-07329431.03.2017JP
2017-07329531.03.2017JP
発明の名称: (EN) PROCESSING DEVICE AND PROCESSING METHOD
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT
(JA) 処理装置および処理方法
要約:
(EN) Provided are a processing device (system) and a processing method with which good quality roll-to-roll processing can be performed simply and easily on both sides of a substrate under atmospheric pressure. A processing device (system) for processing a substrate using a mist or liquid droplets including a processing agent is provided with an accumulation unit for accumulating the mist or liquid droplets, and an impregnation unit for impregnating the substrate with the accumulated mist or liquid droplets. Using the processing device, the mist or liquid droplets are accumulated, and the substrate is processed by impregnating the substrate with the accumulated mist or liquid droplets.
(FR) L'invention concerne un dispositif (système) de traitement et un procédé de traitement qui permettent de réaliser un traitement de rouleau à rouleau de bonne qualité simplement et facilement des deux côtés d'un substrat sous pression atmosphérique. Un dispositif (système) de traitement destiné à traiter un substrat en utilisant un brouillard ou des gouttelettes de liquide comprenant un agent de traitement est pourvu d'une unité d'accumulation destinée à accumuler le brouillard ou les gouttelettes de liquide, et d'une unité d'imprégnation destinée à imprégner le substrat avec le brouillard ou les gouttelettes de liquide accumulés. En utilisant le dispositif de traitement, le brouillard ou les gouttelettes de liquide sont accumulés et le substrat est traité par imprégnation du substrat avec le brouillard ou les gouttelettes de liquide accumulés.
(JA) 大気圧下で、基板の両面において、簡便且つ容易に良質な処理をロール・トゥ・ロールで可能な処理装置(システム)および処理方法を提供する。処理剤を含むミストまたは液滴を用いて基体を処理する処理装置(システム)であって、前記ミストまたは液滴を滞留させる滞留部と、滞留させている前記ミストまたは液滴を前記基体に含浸させる含浸部とを備えている処理装置を用いて、前記ミストまたは液滴を滞留させ、滞留させている前記ミストまたは液滴を前記基体に含浸させて前記基体を処理する。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)