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1. (WO2018181788) SiC単結晶体の品質評価方法及びこれを利用した炭化珪素単結晶インゴットの製造方法
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国際公開番号: WO/2018/181788 国際出願番号: PCT/JP2018/013390
国際公開日: 04.10.2018 国際出願日: 29.03.2018
IPC:
C30B 29/36 (2006.01) ,G01N 23/20 (2018.01)
C 化学;冶金
30
結晶成長
B
単結晶成長;共晶物質の一方向固化または共析晶物質の一方向析出;物質のゾーンメルティングによる精製;特定構造を有する均質多結晶物質の製造;単結晶または特定構造を有する均質多結晶物質;単結晶または特定構造を有する均質多結晶物質の後処理;そのための装置
29
材料または形状によって特徴づけられた単結晶または特定構造を有する均質多結晶物質
10
無機化合物または組成物
36
炭化物
G 物理学
01
測定;試験
N
材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
23
グループG01N21/00またはG01N22/00に包含されない波動性または粒子性放射線,例.X線,中性子線,の使用による材料の調査または分析
20
放射線の回折の利用によるもの,例.結晶構造の調査のためのもの;放射線の反射の利用によるもの
出願人:
昭和電工株式会社 SHOWA DENKO K.K. [JP/JP]; 東京都港区芝大門一丁目13番9号 13-9, Shiba Daimon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058518, JP
発明者:
中林 正史 NAKABAYASHI, Masashi; JP
牛尾 昌史 USHIO, Shoji; JP
代理人:
青木 篤 AOKI, Atsushi; JP
三橋 真二 MITSUHASHI, Shinji; JP
高橋 正俊 TAKAHASHI, Masatoshi; JP
胡田 尚則 EBISUDA, Hisanori; JP
河原 肇 KAWAHARA, Hajime; JP
堂垣 泰雄 DOGAKI, Yasuo; JP
優先権情報:
2017-06938130.03.2017JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR EVALUATING QUALITY OF SiC SINGLE CRYSTAL, AND METHOD FOR PRODUCING SILICON CARBIDE SINGLE CRYSTAL INGOT UTILIZING SAID METHOD
(FR) PROCÉDÉ D'ÉVALUATION DE LA QUALITÉ D'UN MONOCRISTAL DE SiC, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN LINGOT DE CARBURE DE SILICIUM MONOCRISTALLIN UTILISANT LEDIT PROCÉDÉ
(JA) SiC単結晶体の品質評価方法及びこれを利用した炭化珪素単結晶インゴットの製造方法
要約:
(EN) Provided are: a method for evaluating the quality of a SiC single crystal, whereby it becomes possible to evaluate the quality of a SiC single crystal by a non-destructive and simple process; and a method for producing a SiC single crystal ingot, whereby it becomes possible to produce a SiC single crystal ingot that rarely undergoes dislocation and has high quality with high reproducibility by utilizing the evaluation method. A method for evaluating the quality of a SiC single crystal, said method involving approximating a peak shift value obtained by X-ray rocking curve measurement with a polynomial, i.e. a first polynomial, from the relationship with the positions of measurement points, then differentiating the first polynomial to obtain a second polynomial, and then evaluating the quality of the SiC single crystal on the basis of a graph of the second polynomial; and a method for producing a SiC single crystal ingot, said method involving producing the SiC single crystal ingot by a sublimation-recrystallization method using, as a seed crystal, a SiC single crystal that has been evaluated by the evaluation method.
(FR) L'invention concerne : un procédé d'évaluation de la qualité d'un monocristal de SiC, grâce auquel il devient possible d'évaluer la qualité d'un monocristal de SiC par un procédé non destructif et simple; et un procédé de production d'un lingot de SiC monocristallin, grâce auquel il devient possible de produire un lingot de SiC monocristallin qui subit rarement de dislocation et présente une grande qualité, et ce avec une grande reproductibilité, en utilisant le procédé d'évaluation. L'invention concerne donc un procédé d'évaluation de la qualité d'un monocristal de SiC, ledit procédé comprenant l'approximation d'une valeur de décalage maximal obtenue par mesure d'une courbe oscillante des rayons X avec un polynôme, c'est-à-dire un premier polynôme, à partir de la relation avec les positions de points de mesure, puis la différenciation du premier polynôme pour obtenir un second polynôme, puis l'évaluation de la qualité du monocristal de SiC sur la base d'un graphique du second polynôme; et un procédé de production d'un lingot de SiC monocristallin, ledit procédé comprenant la production du lingot de SiC monocristallin par un procédé de recristallisation par sublimation utilisant, en tant que germe cristallin, un monocristal de SiC évalué par le procédé d'évaluation.
(JA) 非破壊でかつ簡便な方法により、SiC単結晶の品質を評価することができるSiC単結晶の品質評価方法、及びこれを利用して転位が少なく、品質の高いSiC単結晶インゴットを再現性良く製造することができるSiC単結晶インゴットの製造方法を提供する。 X線ロッキングカーブ測定により得られたピークシフト値を測定点の位置との関係から多項式で近似し、この第1の多項式を微分して得られた第2の多項式のグラフをもとに、SiC単結晶体の品質を評価するSiC単結晶体の品質評価方法であり、また、これによって評価したSiC単結晶体を種結晶として用いて昇華再結晶法によりSiC単結晶インゴットを製造するSiC単結晶インゴットの製造方法である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
CN109196146DE112018000035