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1. (WO2018181556) 感光性樹脂組成物
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国際公開番号: WO/2018/181556 国際出願番号: PCT/JP2018/012941
国際公開日: 04.10.2018 国際出願日: 28.03.2018
IPC:
G03F 7/031 (2006.01) ,B32B 27/00 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/029 (2006.01) ,H05K 3/00 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
028
増感物質をもつもの,例.光重合開始剤
031
グループ7/029に包含されない有機化合物
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
27
本質的に合成樹脂からなる積層体
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
028
増感物質をもつもの,例.光重合開始剤
029
無機化合物;オニウム化合物;酸素,窒素又は硫黄以外の異種原子をもつ有機化合物
H 電気
05
他に分類されない電気技術
K
印刷回路;電気装置の箱体または構造的細部,電気部品の組立体の製造
3
印刷回路を製造するための装置または方法
出願人:
旭化成株式会社 ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 東京都千代田区有楽町一丁目1番2号 1-1-2 Yurakucho, Chiyoda-ku, Tokyo 1000006, JP
発明者:
内藤 一也 NAITO, Kazuya; JP
落合 真彦 OCHIAI, Masahiko; JP
小坂 隼也 KOSAKA, Junya; JP
代理人:
青木 篤 AOKI, Atsushi; JP
三橋 真二 MITSUHASHI, Shinji; JP
中村 和広 NAKAMURA, Kazuhiro; JP
齋藤 都子 SAITO, Miyako; JP
三間 俊介 MIMA, Shunsuke; JP
優先権情報:
2017-06524129.03.2017JP
2017-18875128.09.2017JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
(JA) 感光性樹脂組成物
要約:
(EN) Provided is a photosensitive resin composition which exhibits more excellent sensitivity (productivity), resolution and adhesiveness than conventionally used sensitizers in laser direct imaging exposure systems, or the like. A photosensitive resin composition according to the present invention contains the following components: (A) an alkali-soluble polymer; (B) a compound having an ethylenically unsaturated double bond; (C) a photopolymerization initiator; and (D) a photosensitizer. The photosensitizer (D) contains a distyrylbenzene derivative represented by general formula (2). In general formula (2), each of R3, R4 and R5 represents a cyano group; each of c and e independently represents an integer of 1-5; and d represents an integer of 0-4.
(FR) L'invention concerne une composition de résine photosensible qui présente une sensibilité (productivité), une résolution et une adhésivité bien supérieures à celles traditionnellement utilisées dans des sensibilisateurs dans des systèmes d'exposition à imagerie directe au laser, ou analogues. Une composition de résine photosensible selon la présente invention contient les constituants suivants : (A) un polymère soluble dans les alcalis ; (B) un composé ayant une double liaison éthyléniquement insaturée ; (C) un initiateur de photopolymérisation ; et (D) un photosensibilisateur. Le photosensibilisateur (D) contient un dérivé distyrylbenzène représenté par la formule générale (2). Dans la formule générale (2), R3, R4 et R5 représentent un groupe cyano ; c et e représentent indépendamment un nombre entier variant de 1 à 5 ; et d représente un nombre entier variant de 0 à 4.
(JA) レーザーダイレクトイメージング型露光方式において、従来使用されている増感剤よりも、感度(生産性)、解像性、密着性に優れる感光性樹脂組成物、等を提供する。以下の成分:(A)アルカリ可溶性高分子、(B)エチレン性不飽和二重結合を有する化合物、(C)光重合開始剤、および(D)光増感剤を含み、(D)光増感剤が、一般式(2)で表されるジスチリルベンゼン誘導体を含む、感光性樹脂組成物。式(2)中、R、R、Rは、それぞれシアノ基を示し、c、eはそれぞれ独立に1~5の整数を示し、そしてdは0~4の整数を示す。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)