このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2018181476) 露光装置、露光方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、及び、デバイス製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/181476 国際出願番号: PCT/JP2018/012767
国際公開日: 04.10.2018 国際出願日: 28.03.2018
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,H01L 21/683 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21
半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67
製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
683
支持または把持のためのもの
出願人:
株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区港南二丁目15番3号 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
発明者:
青木 保夫 AOKI, Yasuo; JP
冨江 瑛彦 TOMIE, Akihiko; JP
代理人:
江上 達夫 EGAMI, Tatsuo; JP
優先権情報:
2017-07291431.03.2017JP
発明の名称: (EN) EXPOSURE DEVICE, EXPOSURE METHOD, PRODUCTION METHOD FOR FLAT PANEL DISPLAY, AND DEVICE PRODUCTION METHOD
(FR) DISPOSITIF D'EXPOSITION, PROCÉDÉ D'EXPOSITION, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DESTINÉ À UN ÉCRAN PLAT ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF
(JA) 露光装置、露光方法、フラットパネルディスプレイの製造方法、及び、デバイス製造方法
要約:
(EN) An exposure device (1) comprising: a support device (14) that supports an optical system in an exposure device that irradiates illumination light (EL) on to an object (P) via the optical system (13), scans and exposes the object, and forms a prescribed pattern that a mask (M) has, on the object; and an object support unit (152) provided in the support device and supporting the object in a non-contact manner.
(FR) Selon la présente invention, un dispositif d'exposition (1) comprend : un dispositif de support (14) qui maintient un système optique dans un dispositif d'exposition qui irradie une lumière d'éclairage (EL) sur un objet (P) par l'intermédiaire du système optique (13), balaye et expose l'objet, et forme, sur l'objet, un motif prescrit qu'un masque (M) présente ; et une unité de support d'objet (152) disposée dans le dispositif de support et maintenant l'objet sans contact.
(JA) 露光装置(1)は、光学系(13)を介して照明光(EL)を物体(P)に照射し、物体を走査露光して、マスク(M)が有する所定パターンを物体上に形成する露光装置において、光学系を支持する支持装置(14)と、支持装置に設けられ、物体を非接触支持する物体支持部(152)とを備える。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)