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1. (WO2018181354) 感光性CTPフレキソ印刷原版
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/181354 国際出願番号: PCT/JP2018/012493
国際公開日: 04.10.2018 国際出願日: 27.03.2018
IPC:
G03F 7/11 (2006.01) ,C08G 69/02 (2006.01) ,C08G 69/40 (2006.01) ,G03F 7/00 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
09
構造の細部,例.支持体,補助層,に特徴のあるもの
11
被覆層又は中間層,例.下塗層をもつもの
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
69
高分子の主鎖にカルボン酸アミド連結基を形成する反応により得られる高分子化合物
02
アミノカルボン酸からまたはポリアミンおよびポリカルボン酸から誘導されるポリアミド
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
69
高分子の主鎖にカルボン酸アミド連結基を形成する反応により得られる高分子化合物
40
エーテル基の形で酸素を含むポリアミド
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
出願人: TOYOBO CO., LTD.[JP/JP]; 2-8, Dojima Hama 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308230, JP
発明者: MATSUO, Keisuke; JP
YONEKURA, Hiromichi; JP
代理人: KAZAHAYA, Nobuaki; JP
ASANO, Noriko; JP
優先権情報:
2017-07052931.03.2017JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE CTP FLEXOGRAPHIC PRINTING PLATE
(FR) PLAQUE D'IMPRESSION FLEXOGRAPHIQUE CTP PHOTOSENSIBLE
(JA) 感光性CTPフレキソ印刷原版
要約:
(EN) Provided is a CTP flexographic printing plate which exhibits excellent barrier properties and does not wrinkle when being handled, even as the environment changes over the course of the year. The provided water-developable photosensitive CTP flexographic printing plate is a photosensitive relief printing plate obtained by sequentially layering at least a support body, a photosensitive resin layer, a barrier layer, and a heat-sensitive mask layer, and is characterized in that: the barrier layer contains a polyamide resin (A) containing a basic nitrogen atom in each molecule thereof, and a polyamide resin (B) containing an alkylene glycol structural unit constituting 40-70 mass% in each molecule thereof; and the content of the polyamide resin (B) relative to the total content of the polyamide resin (A) and the polyamide resin (B) is 25-52 mass%.
(FR) L'invention concerne une plaque d'impression flexographique CTP qui présente d'excellentes propriétés de barrière et ne se plisse pas lorsqu'elle est manipulée, même lorsque l'environnement change au cours de l'année. La plaque d'impression flexographique CTP photosensible développable à l'eau de l'invention est une plaque d'impression en relief photosensible obtenue par stratification successive d'au moins un corps de support, d'une couche de résine photosensible, d'une couche barrière et d'une couche de masque thermosensible, et est caractérisée en ce que : la couche barrière contient une résine polyamide (A) contenant un atome d'azote basique dans chaque molécule correspondante, et une résine polyamide (B) contenant un motif structural d'alkylène glycol constituant 40 - 70 % en masse de chaque molécule correspondante ; et la teneur de la résine polyamide (B) par rapport à la teneur totale de la résine polyamide (A) et de la résine polyamide (B) est de 25 - 52 % en masse.
(JA) 一年間の環境変化に対してCTP印刷原版の取り扱い中に皺が発生すことなく、バリヤ性にも優れた感光性CTPフレキソ印刷原版を提供する。少なくとも支持体、感光性樹脂層、バリヤ層、及び感熱マスク層が順次積層されてなる感光性凸版印刷原版であって、バリヤ層が、分子内に塩基性窒素原子を含有するポリアミド樹脂(A)と、分子内にアルキレングリコール構造単位を40~70質量%含有するポリアミド樹脂(B)とを含有し、且つポリアミド樹脂(A)とポリアミド樹脂(B)の合計量に対するポリアミド樹脂(B)の含有量が25~52質量%であることを特徴とする水現像可能な感光性CTPフレキソ印刷原版。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)