WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | Français | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

国際・国内特許データベース検索
World Intellectual Property Organization
オプション
検索言語
語幹処理適用
並び替え:
表示件数
このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2018181295) 精留装置
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/181295 国際出願番号: PCT/JP2018/012404
国際公開日: 04.10.2018 国際出願日: 27.03.2018
IPC:
B01D 3/26 (2006.01) ,B01D 3/32 (2006.01) ,C01C 1/02 (2006.01) ,C01C 1/10 (2006.01) ,C01C 1/12 (2006.01)
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
3
蒸留またはそれに関連する液体がガス状媒質と接触するプロセス,例.ストリッピング
14
分留
26
蒸気と液体とが相互に流れる分留塔,または流体が蒸気中に噴霧される分留塔,または二相混合物が一方向に流れる分留塔
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
3
蒸留またはそれに関連する液体がガス状媒質と接触するプロセス,例.ストリッピング
14
分留
32
分留塔の他の特徴
C 化学;冶金
01
無機化学
C
アンモニア;シアン;それらの化合物
1
アンモニア;その化合物
02
アンモニアの製造または分離
C 化学;冶金
01
無機化学
C
アンモニア;シアン;それらの化合物
1
アンモニア;その化合物
02
アンモニアの製造または分離
10
アンモニア液,例.ガス液,からアンモニアの分離
C 化学;冶金
01
無機化学
C
アンモニア;シアン;それらの化合物
1
アンモニア;その化合物
02
アンモニアの製造または分離
12
ガスおよび気体からアンモニアの分離
出願人: SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD.[JP/JP]; 346-1, Miyanishi, Harima-cho, Kako-gun, Hyogo 6750145, JP
発明者: NISHIYAMA, Norio; JP
TOKISATO, Kazuhiko; JP
MINAMI, Hidenori; JP
KOMORI, Yoshiro; JP
代理人: SAMEJIMA, Mutsumi; JP
OKABE, Hiroshi; JP
優先権情報:
2017-06489229.03.2017JP
発明の名称: (EN) RECTIFICATION DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE RECTIFICATION
(JA) 精留装置
要約:
(EN) A rectification device that purifies crude gas, the rectification device comprising: a rectification unit into which the crude gas is introduced and in which a rectification process is performed on the crude gas; and a processing container having in the interior thereof a bottom space disposed below the rectification unit, and a top space disposed above the rectification unit. A fill material that aids gas-liquid contact is disposed in the rectification unit, and a calandria reboiler, which heats and gasifies liquefied gas while naturally circulating the liquefied gas inside the bottom space, is disposed inside the bottom space.
(FR) L'invention concerne un dispositif de rectification qui purifie le gaz brut. Le dispositif de rectification comprend: une unité de rectification dans laquelle le gaz brut est introduit et dans laquelle un processus de rectification est effectué sur le gaz brut; et un récipient de traitement ayant à l'intérieur de celui-ci un espace inférieur disposé en dessous de l'unité de rectification, et un espace supérieur disposé au-dessus de l'unité de rectification. Un matériau de remplissage qui aide le contact gaz-liquide est disposé dans l'unité de rectification, et un rebouilleur de calandre, qui chauffe et gazéifie le gaz liquéfié tout en faisant circuler naturellement le gaz liquéfié à l'intérieur de l'espace inférieur, est disposé à l'intérieur de l'espace inférieur.
(JA) 粗ガスを精製する精留装置において、粗ガスが導入されるとともに、粗ガスに対する精留処理が行われる精留部と、精留部の下方に配置された底部空間と、精留部の上方に配置された上部空間と、を内部に有する、処理容器を備え、精留部には、気液接触を補助する充填材が配置され、底部空間内には、液化ガスを底部空間内にて自然循環させながら加熱して気化させるカランドリア型リボイラが配置されている。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)