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1. (WO2018181265) 液晶表示装置
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国際公開番号: WO/2018/181265 国際出願番号: PCT/JP2018/012335
国際公開日: 04.10.2018 国際出願日: 27.03.2018
IPC:
G02F 1/1337 (2006.01) ,G02F 1/1343 (2006.01)
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
1333
構造配置
1337
液晶分子の界面による配向,例.配向層
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
1333
構造配置
1343
電極
出願人:
シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 大阪府堺市堺区匠町1番地 1 Takumi-cho, Sakai-ku, Sakai City, Osaka 5908522, JP
発明者:
米林 諒 YONEBAYASHI Ryo; --
西山 隆之 NISHIYAMA Takayuki; --
横野 示寛 YOKONO Tokihiro; --
田中 耕平 TANAKA Kohhei; --
吉田 圭介 YOSHIDA Keisuke; --
代理人:
川上 桂子 KAWAKAMI Keiko; JP
松山 隆夫 MATSUYAMA Takao; JP
優先権情報:
2017-06885430.03.2017JP
発明の名称: (EN) LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE
(FR) AFFICHEUR A CRISTAUX LIQUIDES
(JA) 液晶表示装置
要約:
(EN) Provided is a technique by which decrease of the display quality is able to be suppressed even in cases where a wiring line is arranged within a pixel. A liquid crystal display device according to the present invention is provided with: an active matrix substrate 10; a counter substrate that is arranged so as to face the active matrix substrate 10; and a liquid crystal layer that is held between the active matrix substrate and the counter substrate. The active matrix substrate 10 is provided with: a plurality of pixels PIX, each of which has a light-blocking region Pb and a non-light-blocking region Pa, while being provided with pixel electrodes 210a, 210b that have a slit 214 in the non-light-blocking region Pa; and a wiring line 13 which is arranged in a pixel region. The liquid crystal molecules in the liquid crystal layer are driven in a horizontal alignment mode. Each one of some pixels PIXb among the plurality of pixels has a low transmission region 2141b in which the transmittance within a slit 214b in the pixel is lower than the transmittance within a slit 214a in each of the other pixels PIXa. The wiring line 13 is arranged in the low transmission regions 2141b of the some pixels PIXb.
(FR) L'invention concerne une technique permettant de supprimer la diminution de la qualité d'affichage même dans les cas où une ligne de câblage est disposée à l'intérieur d'un pixel. Un dispositif d'affichage à cristaux liquides selon la présente invention comprend : un substrat de matrice active 10; un contre-substrat qui est agencé de façon à faire face au substrat de matrice active 10; et une couche de cristaux liquides qui est maintenue entre le substrat de matrice active et le contre-substrat. Le substrat de matrice active 10 est pourvu : d'une pluralité de pixels PIX, dont chacun a une région de blocage de lumière Pb et une région de non-blocage de lumière Pa, tout en étant pourvue d'électrodes de pixel 210a, 210b qui ont une fente 214 dans la région de non-blocage de lumière Pa; et une ligne de câblage 13 qui est agencée dans une région de pixel. Les molécules de cristaux liquides dans la couche de cristaux liquides sont entraînées dans un mode d'alignement horizontal. Chacun de certains pixels PIXb parmi la pluralité de pixels a une région de transmission basse 2141b dans laquelle la transmittance à l'intérieur d'une fente 214b dans le pixel est inférieure à la transmittance à l'intérieur d'une fente 214a dans chacun des autres pixels PIXa. La ligne de câblage 13 est agencée dans les régions de transmission basse 2141b des certains pixels PIXb.
(JA) 画素内に配線を配置した場合であっても、表示品位の低下を抑制し得る技術を提供すること。液晶表示装置は、アクティブマトリクス基板10と、アクティブマトリクス基板10に対向して配置された対向基板と、アクティブマトリクス基板と対向基板との間に挟持された液晶層とを備える。アクティブマトリクス基板10は、遮光領域Pbと非遮光領域Paとを有し、非遮光領域Paにスリット214を有する画素電極210a、210bがそれぞれ設けられた複数の画素PIXと、画素領域に配置された配線13と、を備える。液晶層における液晶分子は水平配向モードで駆動される。複数の画素のうちの一部の画素PIXbのそれぞれは、当該画素におけるスリット214b内の透過率が、他の画素PIXaにおけるスリット214a内の透過率よりも低い低透過領域2141bを有する。配線13は、一部の画素PIXbにおける低透過領域2141bに配置される。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)