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1. (WO2018180891) Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の製造方法
Pub. No.:    WO/2018/180891    International Application No.:    PCT/JP2018/011416
Publication Date: Fri Oct 05 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Fri Mar 23 00:59:59 CET 2018
IPC: H01F 41/02
B22F 1/00
B22F 3/00
C22C 38/00
H01F 1/057
Applicants: HITACHI METALS, LTD.
日立金属株式会社
Inventors: ISHII, Rintaro
石井　倫太郎
SATOH, Teppei
佐藤　鉄兵
KUNIYOSHI, Futoshi
國吉　太
Title: Ｒ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の製造方法
Abstract:
Ｃｏ：３．５～８．５質量％、Ｂ：０．２～０．８質量％、Ｒ：３３～６９質量％、Ｔ：１０～６０質量％、Ｃｕ：０．８～３質量％、Ｇａ：１．８～１０質量％を含み、下記（１）を満足する添加合金粉末を準備する工程、Ｂ：０．９１～１．１質量％、Ｒ：２８．５～３３質量％、Ｔ：６４～７０質量％、Ｇａ：０．１～０．４質量％を含む主合金粉末を準備する工程、添加合金粉末１～１６質量％と主合金粉末８２～９９質量％を含む混合合金粉末を準備する工程、混合合金粉末を成形して成形体を得る工程、成形体を焼結して焼結体を得る工程および焼結体を熱処理する工程を含むＲ－Ｔ－Ｂ系焼結磁石の製造方法である。 １４×［Ｂ］／１０．８≦［Ｔ］／５５．８５≦１４×［Ｂ］／１０．８×２・・・（１）　［Ｂ］、［Ｔ］は添加合金粉末中のＢ、Ｔの含有量（質量％）である。