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1. (WO2018180850) 液晶表示素子の製造方法
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国際公開番号: WO/2018/180850 国際出願番号: PCT/JP2018/011312
国際公開日: 04.10.2018 国際出願日: 22.03.2018
IPC:
G02F 1/1337 (2006.01)
G 物理学
02
光学
F
光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1
独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01
強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13
液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133
構造配置;液晶セルの作動;回路配置
1333
構造配置
1337
液晶分子の界面による配向,例.配向層
出願人:
DIC株式会社 DIC CORPORATION [JP/JP]; 東京都板橋区坂下三丁目35番58号 35-58, Sakashita 3-chome, Itabashi-ku, Tokyo 1748520, JP
発明者:
後藤 麻里奈 GOTO Marina; JP
井ノ上 雄一 INOUE Yuichi; JP
代理人:
小川 眞治 OGAWA Shinji; JP
優先権情報:
2017-06764530.03.2017JP
発明の名称: (EN) METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT
(FR) PROCÉDÉ PERMETTANT DE FABRIQUER UN ÉLÉMENT D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES
(JA) 液晶表示素子の製造方法
要約:
(EN) Provided is a method for manufacturing a liquid crystal display element, which comprises one to n separate and independent light irradiation steps for irradiating a liquid crystal composition containing a polymerizable compound affixed onto a substrate with light having a peak at 300-400 nm, and is characterized in that, when the concentration change amount Vk per unit minute of the concentration difference between the concentration (Ck) of the polymerizable compound after the liquid crystal composition containing 0.3 mass% of the polymerizable compound has been irradiated with light for five minutes under the light irradiation condition of a k-th light irradiation step (Sk) among the one to n light irradiation steps, and 0.3 mass% is represented by expression (1) in each of the steps, the average reaction velocity Vave of the polymerizable compound in all light irradiation steps (ΣSk) represented by expression (2) is controlled to 0.030-0.048 (mass%/min).
(FR) L'invention concerne un procédé de fabrication d'un élément d'affichage à cristaux liquides, qui comprend une à n étapes d'irradiation de lumière séparées et indépendantes permettant d'irradier une composition de cristaux liquides contenant un composé polymérisable apposée sur un substrat avec une lumière ayant un pic à 300-400 nm, et qui est caractérisé en ce que, lorsque la quantité de changement de concentration Vk par unité minute de la différence de concentration entre la concentration (Ck) du composé polymérisable après que la composition de cristaux liquides contenant 0,3 % en masse du composé polymérisable a été irradiée avec de la lumière pendant cinq minutes dans la condition d'irradiation de lumière d'une k-ième étape d'irradiation de lumière (Sk) parmi les une à n étapes d'irradiation de lumière, et 0,3 % en masse est représentée par l'expression (1) dans chacune des étapes, la vitesse de réaction moyenne Vave du composé polymérisable dans toutes les étapes d'irradiation de lumière (ΣSk) représentée par l'expression (2) est régulée à 0,030-0,048 (% en masse/min).
(JA) 基板上に添着された重合性化合物を含有する液晶組成物に300~400nmにピークを有する光を照射する光照射工程を別個独立する1~n回備えた液晶表示素子の製造方法であって、 前記の1~n回の光照射工程のうちk回目の光照射工程(S)の光照射条件下で前記重合性化合物を0.3質量%含有する液晶組成物に対して5分間光を照射した後の前記重合性化合物の濃度(C)と、0.3質量%との濃度差の単位分あたりの濃度変化量Vが、式(1)で工程毎に表される場合、式(2)で表される全光照射工程(ΣSk)における前記重合性化合物の平均反応速度Vaveを0.030~0.048(質量%/分)に制御することを特徴とする、液晶表示素子の製造方法を提供する。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)