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1. (WO2018180645) スパッタリングターゲット及び、その製造方法
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国際公開番号: WO/2018/180645 国際出願番号: PCT/JP2018/010629
国際公開日: 04.10.2018 国際出願日: 16.03.2018
予備審査請求日: 09.10.2018
IPC:
C23C 14/34 (2006.01) ,C22C 9/00 (2006.01) ,C22C 9/01 (2006.01) ,C22C 9/06 (2006.01) ,C22F 1/08 (2006.01) ,C22F 1/00 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
34
スパッタリング
C 化学;冶金
22
冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
C
合金
9
銅基合金
C 化学;冶金
22
冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
C
合金
9
銅基合金
01
次に多い成分としてアルミニウムを含むもの
C 化学;冶金
22
冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
C
合金
9
銅基合金
06
次に多い成分としてニッケルまたはコバルトを含むもの
C 化学;冶金
22
冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
F
非鉄金属または非鉄合金の物理的構造の変化
1
非鉄金属または合金の熱処理によるか熱間または冷間加工による物理的構造の変化
08
銅または銅基合金
C 化学;冶金
22
冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
F
非鉄金属または非鉄合金の物理的構造の変化
1
非鉄金属または合金の熱処理によるか熱間または冷間加工による物理的構造の変化
出願人:
JX金属株式会社 JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区大手町一丁目1番2号 1-2,Otemachi 1-chome,Chiyoda-ku, Tokyo 1008164, JP
発明者:
大月 富男 OTSUKI,Tomio; JP
守井 泰士 MORII,Yasushi; JP
代理人:
アクシス国際特許業務法人 AXIS PATENT INTERNATIONAL; 東京都港区新橋二丁目6番2号 新橋アイマークビル Shimbashi i-mark Bldg., 6-2 Shimbashi 2-Chome, Minato-ku, Tokyo 1050004, JP
優先権情報:
2017-06845730.03.2017JP
2018-04021206.03.2018JP
発明の名称: (EN) SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
(FR) CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELLE-CI
(JA) スパッタリングターゲット及び、その製造方法
要約:
(EN) A sputtering target of one embodiment is a sputtering target in which a target part and a backing plate part, which are composed of copper and inevitable impurities, are integrally formed, wherein the Vickers hardness (Hv) is 90 or more, and the flatness ratio of grains in a cross-section, which is orthogonal to the sputtering face, is 0.35-0.65.
(FR) Une cible de pulvérisation cathodique d'un mode de réalisation est une cible de pulvérisation dans laquelle une partie cible et une partie de plaque de support, qui sont composées de cuivre et d'impuretés inévitables, sont formées d'un seul tenant, la dureté Vickers (Hv) est de 90 ou plus, et le rapport de planéité des grains dans une section transversale, qui est orthogonal à la face de pulvérisation, est de 0,35 à 0,65.
(JA) 一の実施形態のスパッタリングターゲットは、ターゲット部とバッキングプレート部がいずれも銅及び不可避的不純物からなる一体型のものであって、ビッカース硬さHvが90以上であり、スパッタ面に直交する断面の結晶粒の扁平率が、0.35以上かつ0.65以下であるものである。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)
また、:
KR1020190045315CN109983149