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1. (WO2018180592) 感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜を具備する素子、硬化膜を具備する有機EL表示装置、硬化膜の製造方法、および有機EL表示装置の製造方法
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国際公開番号: WO/2018/180592 国際出願番号: PCT/JP2018/010458
国際公開日: 04.10.2018 国際出願日: 16.03.2018
IPC:
G03F 7/027 (2006.01) ,C08F 2/48 (2006.01) ,G03F 1/00 (2012.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/037 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,H01L 51/50 (2006.01) ,H05B 33/10 (2006.01) ,H05B 33/12 (2006.01) ,H05B 33/22 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
2
重合方法
46
波動エネルギーまたは粒子線の照射によって開始される重合
48
紫外線または可視光線によるもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
1
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造に用いる原稿,例.マスク,フォトマスク又はレチクル;そのためのマスクブランク又はペリクル;特にそれに適合した容器;その準備
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
032
結合剤をもつもの
037
結合剤がポリアミド又はポリイミドであるもの
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
H 電気
01
基本的電気素子
L
半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51
能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50
光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
10
エレクトロルミネッセンス光源の製造に特に適用する装置または方法
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
12
実質的に2次元放射面をもつ光源
H 電気
05
他に分類されない電気技術
B
電気加熱;他に分類されない電気照明
33
エレクトロルミネッセンス光源
12
実質的に2次元放射面をもつ光源
22
補助的な誘電体または反射層の配置あるいは化学的または物理的組成によって特徴づけられたもの
出願人:
東レ株式会社 TORAY INDUSTRIES, INC. [JP/JP]; 東京都中央区日本橋室町2丁目1番1号 1-1, Nihonbashi-Muromachi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038666, JP
発明者:
亀本聡 KAMEMOTO, Satoshi; JP
谷垣勇剛 TANIGAKI, Yugo; JP
三好一登 MIYOSHI, Kazuto; JP
優先権情報:
2017-06236828.03.2017JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, ELEMENT EQUIPPED WITH CURED FILM, ORGANIC EL DISPLAY DEVICE EQUIPPED WITH CURED FILM, CURED FILM PRODUCTION METHOD, AND ORGANIC EL DISPLAY DEVICE PRODUCTION METHOD
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, FILM DURCI AINSI QUE PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELUI-CI, ÉLÉMENT MUNI DE FILM DURCI, DISPOSITIF D’AFFICHAGE ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE MUNI DE FILM DURCI, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF D’AFFICHAGE ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE
(JA) 感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜を具備する素子、硬化膜を具備する有機EL表示装置、硬化膜の製造方法、および有機EL表示装置の製造方法
要約:
(EN) The present invention provides a photosensitive resin composition that exhibits a light blocking effect, is of high sensitivity, and provides excellent halftone characteristics. This photosensitive resin composition comprises (A) an alkali-soluble resin, (B) a radical polymerizable compound, (C) a photopolymerization initiator, and (D) a colorant, wherein: the alkali-soluble resin (A) contains a polyimide, a polyimide precursor, a polybenzooxazole precursor and/or a copolymer thereof; and the radical polymerizable compound (B) contains (B-1) a (meth)acrylic compound that has two or more functional groups and that exhibits a glass transition temperature of at least 150°C when used as a homopolymer and (B-2) a (meth)acrylic compound that has four or more functional groups and that is other than (B-1).
(FR) L’invention fournit une composition de résine photosensible qui tout en présentant une opacité, est dotée d’une sensibilité élevée, et révèle d’excellentes caractéristiques de demi-teinte. Plus précisément, l’invention concerne une composition de résine photosensible qui comprend une résine soluble dans l'alcali (A), un composé polymérisable par voie radicalaire (B), un initiateur de photopolymérisation (C) et un colorant (D). Ladite résine soluble dans l'alcali (A) comprend un polyimide, un précurseur de polyimide, un précurseur de polybenzoxazole et/ou un copolymère de ceux-ci. Ledit composé polymérisable par voie radicalaire (B) comprend un composé (méth)acrylique au moins difonctionnel (B-1) présentant une température de transition vitreuse supérieure ou égale à 150°C lorsqu’il tient lieu d’homopolymère, et un composé (méth)acrylique au moins tétrafonctionnel (B-2) autre que (B-1).
(JA) 本発明は、遮光性を有しながら高感度で、ハーフトーン特性に優れた感光性樹脂組成物を提供する。本発明は、(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)ラジカル重合性化合物、(C)光重合開始剤および(D)着色剤を含有する感光性樹脂組成物であって、前記(A)アルカリ可溶性樹脂は、ポリイミド、ポリイミド前駆体、ポリベンゾオキサゾール前駆体および/またはそれらの共重合体を含有し、前記(B)ラジカル重合性化合物が、(B-1)単独重合体としたときのガラス転移温度が150℃以上となる2官能以上の(メタ)アクリル化合物および(B-2)(B-1)以外の4官能以上の(メタ)アクリル化合物とを含有する、感光性樹脂組成物である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)