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1. (WO2018180563) AFX構造のゼオライト膜、膜構造体、及び膜構造体の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/180563 国際出願番号: PCT/JP2018/010325
国際公開日: 04.10.2018 国際出願日: 15.03.2018
IPC:
B01D 71/02 (2006.01) ,B01D 69/00 (2006.01) ,B01D 69/10 (2006.01) ,B01D 69/12 (2006.01) ,C01B 39/04 (2006.01) ,C01B 39/54 (2006.01)
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
71
材料に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
02
無機材料
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
69
形状,構造または特性に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
69
形状,構造または特性に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
10
支持膜;膜支持体
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
69
形状,構造または特性に特徴のある分離工程または装置のための半透膜;そのために特に適合した製造工程
12
複合膜;超薄膜
C 化学;冶金
01
無機化学
B
非金属元素;その化合物
39
分子ふるい特性と塩基交換特性を有する化合物,例.結晶性ゼオライト;その製造;後処理,例.イオン交換または脱アルミニウム
02
結晶性アルミノけい酸塩ゼオライト;その同形置換化合物;その直接製造;もう一つの型の結晶性ゼオライトを含む反応混合物から,または前もって形成された反応物質からの製造:その後処理
04
すくなくとも一つの有機鋳型指向剤,例.イオン性第4級アンモニウム化合物またはアミノ化化合物,を用いるもの
C 化学;冶金
01
無機化学
B
非金属元素;その化合物
39
分子ふるい特性と塩基交換特性を有する化合物,例.結晶性ゼオライト;その製造;後処理,例.イオン交換または脱アルミニウム
54
りん酸塩,例.APOまたはSAPO化合物
出願人:
日本碍子株式会社 NGK INSULATORS, LTD. [JP/JP]; 愛知県名古屋市瑞穂区須田町2番56号 2-56, Suda-cho, Mizuho-ku, Nagoya-shi, Aichi 4678530, JP
発明者:
萩尾 健史 HAGIO Takeshi; JP
野田 憲一 NODA Kenichi; JP
宮原 誠 MIYAHARA Makoto; JP
清水 克哉 SHIMIZU Katsuya; JP
三浦 綾 MIURA Aya; JP
吉村 遼太郎 YOSHIMURA Ryotaro; JP
代理人:
新樹グローバル・アイピー特許業務法人 SHINJYU GLOBAL IP; 大阪府大阪市北区南森町1丁目4番19号 サウスホレストビル South Forest Bldg., 1-4-19 Minamimori-machi, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300054, JP
優先権情報:
2017-07154031.03.2017JP
PCT/JP2018/00831205.03.2018JP
発明の名称: (EN) AFX-STRUCTURE ZEOLITE MEMBRANE, MEMBRANE STRUCTURE, AND MEMBRANE STRUCTURE PRODUCTION METHOD
(FR) MEMBRANE DE ZÉOLITE À STRUCTURE AFX, STRUCTURE DE MEMBRANE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE STRUCTURE DE MEMBRANE
(JA) AFX構造のゼオライト膜、膜構造体、及び膜構造体の製造方法
要約:
(EN) In an x-ray diffraction pattern obtained by irradiating the membrane surface of an AFX membrane (20) with x-rays, the peak intensity in the (110) plane is at least 2.5 times the peak intensity in the (004) plane.
(FR) Selon l'invention, dans un diagramme de diffraction de rayons X obtenu en irradiant la surface de membrane d'une membrane AFX (20) avec des rayons X, l'intensité de pic dans le plan (110) est au moins égale à 2,5 fois l'intensité de pic dans le plan (004).
(JA) AFX膜(20)の膜表面にX線を照射して得られるX線回折パターンにおいて、(110)面のピーク強度が、(004)面のピーク強度の2.5倍以上である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)