国際・国内特許データベース検索

1. (WO2018180487) ガスバリアフィルムおよび成膜方法

Pub. No.:    WO/2018/180487    International Application No.:    PCT/JP2018/009900
Publication Date: Fri Oct 05 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Thu Mar 15 00:59:59 CET 2018
IPC: B32B 9/00
B32B 37/02
C23C 16/42
C23C 16/50
C23C 16/54
H01L 51/50
H05B 33/02
H05B 33/04
Applicants: FUJIFILM CORPORATION
富士フイルム株式会社
Inventors: MOCHIZUKI Yoshihiko
望月 佳彦
INABA Tatsuya
稲葉 竜也
Title: ガスバリアフィルムおよび成膜方法
Abstract:
ガスバリア性および透明性に優れるガスバリアフィルム、および、このガスバリアフィルムを製造するための成膜方法の提供を課題とする。ガスバリアフィルムは、支持体と、ケイ素および水素と、酸素、窒素および炭素の1以上とを含む無機層とを有し、無機層の、領域Xにおける水素原子濃度が、10~45原子%であり、領域Yにおける水素原子濃度が5~35原子%であり、かつ、領域Xの水素原子濃度より低く、支持体は、IRスペクトルの3000~3500cm-1/2700~3000cm-1の強度比が、無機層形成側の面/逆側の面の比で1~7である。成膜方法は、順に、無機層成膜前の支持体を加熱し、少なくとも2つの成膜ユニットにより、水素添加による無機層を成膜し、無機層の成膜された基材に、無機層を成膜する方法である。