このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2018180090) 排ガス浄化装置の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/180090 国際出願番号: PCT/JP2018/006814
国際公開日: 04.10.2018 国際出願日: 23.02.2018
IPC:
B01J 37/02 (2006.01) ,B01D 53/94 (2006.01) ,B01J 37/08 (2006.01) ,F01N 3/035 (2006.01) ,F01N 3/28 (2006.01)
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
J
化学的または物理的方法,例.触媒,コロイド化学;それらの関連装置
37
触媒調製のためのプロセス一般;触媒の活性化のためのプロセス一般
02
含浸,被覆または沈澱
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
D
分離
53
ガスまたは蒸気の分離;ガスからの揮発性溶剤蒸気の回収;廃ガスの化学的または生物学的浄化,例.エンジン排気ガス,煙,煙霧,煙道ガスまたはエアロゾル
34
廃ガスの化学的または生物学的浄化
92
エンジン排気ガスに適用されるもの
94
触媒による方法によるもの
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
J
化学的または物理的方法,例.触媒,コロイド化学;それらの関連装置
37
触媒調製のためのプロセス一般;触媒の活性化のためのプロセス一般
08
熱処理
F 機械工学;照明;加熱;武器;爆破
01
機械または機関一般;機関設備一般;蒸気機関
N
機械または機関のためのガス流消音器または排気装置一般;内燃機関用ガス流消音器または排気装置
3
排気の清浄,無害化または他の処理をする手段をもつ排気もしくは消音装置
02
排気を冷却するためのもの,または排気の固体成分を除去するためのもの
021
フィルタを用いるもの
033
他の装置と組み合わせたもの
035
触媒反応装置を備えたもの
F 機械工学;照明;加熱;武器;爆破
01
機械または機関一般;機関設備一般;蒸気機関
N
機械または機関のためのガス流消音器または排気装置一般;内燃機関用ガス流消音器または排気装置
3
排気の清浄,無害化または他の処理をする手段をもつ排気もしくは消音装置
08
無害にするためのもの
10
排気の有害成分を熱または触媒で変換することによるもの
24
変換装置の構造的な面に特徴をもつもの
28
触媒反応装置の構造
出願人:
株式会社キャタラー CATALER CORPORATION [JP/JP]; 静岡県掛川市千浜7800番地 7800, Chihama, Kakegawa-shi, Shizuoka 4371492, JP
発明者:
田中 佑樹 TANAKA, Yuki; JP
福代 祥子 FUKUYO, Shoko; JP
中田 和真 NAKADA, Kazuma; JP
安富 栄一 YASUTOMI, Eiichi; JP
西村 亮 NISHIMURA, Ryo; JP
代理人:
青木 篤 AOKI, Atsushi; JP
三橋 真二 MITSUHASHI, Shinji; JP
関根 宣夫 SEKINE, Nobuo; JP
胡田 尚則 EBISUDA, Hisanori; JP
塩川 和哉 SHIOKAWA, Kazuya; JP
優先権情報:
2017-07298831.03.2017JP
発明の名称: (EN) MANUFACTURING METHOD FOR EXHAUST GAS PURIFICATION DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF DE PURIFICATION DE GAZ D'ÉCHAPPEMENT
(JA) 排ガス浄化装置の製造方法
要約:
(EN) The purpose of the present invention is to provide a manufacturing method for an exhaust gas purification device that can uniformly coat a honeycomb substrate with slurry even when using a low viscosity slurry. The present invention pertains to a manufacturing method for an exhaust gas purification device that includes providing a slurry for catalyst layer formation from a shower nozzle onto a honeycomb substrate, coating the honeycomb substrate with the slurry, and firing the honeycomb substrate coated with the slurry, wherein the viscosity of the slurry at a shear rate of 4 s-1 is 800 mPA·s or less, the shower nozzle has a plurality of discharge openings for discharging the slurry, the relationship of the spacing a of the discharge openings and the diameter b of the liquid drops formed when starting supply of the slurry is 0.85 < a/b, and the equivalent diameter c of a slurry face when starting supply of the slurry and the slurry has spread on the honeycomb substrate is greater than or equal to the spacing a of the discharge openings.
(FR) La présente invention a pour objet de fournir un procédé de fabrication d'un dispositif de purification de gaz d'échappement qui peut recouvrir de manière uniforme un substrat en nid d'abeilles avec une suspension épaisse même lors de l'utilisation d'une suspension épaisse de faible viscosité. La présente invention se rapporte à un procédé de fabrication d'un dispositif de purification de gaz d'échappement qui consiste à fournir une suspension épaisse pour une formation de couche de catalyseur à partir d'une buse de douche sur un substrat en nid d'abeilles, à recouvrir le substrat en nid d'abeilles avec la suspension épaisse et à cuire le substrat en nid d'abeilles recouvert de la suspension épaisse, la viscosité de la suspension épaisse à un taux de cisaillement de 4 s-1 étant égal ou inférieur à 800 mPA·s, la buse de douche comportant une pluralité d'ouvertures de décharge destinées à décharger la suspension épaisse, la relation entre l'espacement (a) des ouvertures de décharge et le diamètre (b) des gouttes de liquide formées lors du commencement de la fourniture de la suspension épaisse est 0,85 < a/b et le diamètre équivalent (c) d'une face de suspension épaisse lors du commencement de la fourniture de la suspension épaisse et lorsque la suspension épaisse s'est étalée sur le substrat en nid d'abeilles étant supérieur ou égal à l'espacement (a) des ouvertures de décharge.
(JA) 本発明は、低粘度のスラリーを用いてもハニカム基材にスラリーを均一にコーティングすることができる排ガス浄化装置の製造方法を提供することを目的とする。 本発明は、ハニカム基材の上部に触媒層形成用スラリーをシャワーノズルから提供すること、前記ハニカム基材に前記スラリーをコーティングすること、及び前記スラリーがコーティングされたハニカム基材を焼成することを含む、排ガス浄化装置の製造方法であって、前記スラリーのせん断速度4s-1での粘度が800mPa・s以下であり、前記シャワーノズルが、前記スラリーを吐出するための複数の吐出口を有し、前記吐出口の間隔aと、前記スラリーの提供を開始した際に形成される液玉の直径bとが0.85<a/bの関係を有し、かつ前記スラリーの提供を開始して前記ハニカム基材上にスラリーが広がった際のスラリーの面の等価直径cが、前記吐出口の間隔a以上である、排ガス浄化装置の製造方法に関する。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)