このアプリケーションの一部のコンテンツは現時点では利用できません。
このような状況が続く場合は、にお問い合わせくださいフィードバック & お問い合わせ
1. (WO2018180071) 感光性組成物および印刷版原版
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/180071 国際出願番号: PCT/JP2018/006663
国際公開日: 04.10.2018 国際出願日: 23.02.2018
予備審査請求日: 22.08.2018
IPC:
G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/00 (2006.01) ,G03F 7/032 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
027
炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
032
結合剤をもつもの
出願人:
住友理工株式会社 SUMITOMO RIKO COMPANY LIMITED [JP/JP]; 愛知県小牧市東三丁目1番地 1, Higashi 3-chome, Komaki-shi, Aichi 4858550, JP
発明者:
森原 康滋 MORIHARA, Koji; JP
橋本 英幸 HASHIMOTO, Hideyuki; JP
井上 大輔 INOUE, Daisuke; JP
松岡 甲樹 MATSUOKA, Koki; JP
所 圭輔 TOKORO, Keisuke; JP
有村 昭二 ARIMURA, Shouji; JP
代理人:
特許業務法人上野特許事務所 WENO & PARTNERS; 愛知県名古屋市中区栄三丁目21番23号ケイエスイセヤビル8階 KS Iseya Building 8th Floor, 21-23, Sakae 3-chome, Naka-ku, Nagoya-shi, Aichi 4600008, JP
優先権情報:
2017-06737230.03.2017JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PRINTING PLATE PRECURSOR
(FR) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE ET PRÉCURSEUR DE PLAQUE D'IMPRESSION
(JA) 感光性組成物および印刷版原版
要約:
(EN) The present invention provides a photosensitive composition and a printing plate precursor capable of reducing the likelihood that a precured portion adheres to a photosensitive layer or the like in a water development step. A photosensitive composition is used in a water-developable printing plate precursor, the photosensitive composition containing a water-dispersible latex, a millable rubber, a photopolymerization initiator, a photopolymerizable compound, and a surfactant. The water-dispersible latex exists in the form of a spherical body 18 in a composition, said spherical body 18 being covered with a layer 20 containing a surfactant. A printing plate precursor 10 is provided with a photosensitive layer 14 composed of the photosensitive composition.
(FR) La présente invention concerne une composition photosensible et un précurseur de plaque d'impression aptes à réduire la probabilité qu'une partie prédurcie adhère à une couche photosensible ou similaire pendant une étape de développement à l'eau. Une composition photosensible est utilisée dans un précurseur de plaque d'impression développable à l'eau, la composition photosensible contenant un latex hydrodispersable, un caoutchouc fraisable, un initiateur de photopolymérisation, un composé photopolymérisable et un tensioactif. Le latex hydrodispersable se présente sous la forme d'un corps sphérique (18) dans une composition, ledit corps sphérique (18) étant recouvert d'une couche (20) contenant un tensioactif. Un précurseur de plaque d'impression (10) est pourvu d'une couche photosensible (14) composée de la composition photosensible.
(JA) 水現像工程において未硬化部分の感光層などへの付着が抑えられる感光性組成物および印刷版原版を提供すること。 水現像によって現像が行われる印刷版原版に用いられる感光性組成物であって、水分散ラテックス、ミラブルゴム、光重合開始剤、光重合性化合物、界面活性剤を含有し、組成物中において水分散ラテックスが球状体18で存在し、球状体18が界面活性剤を含む層20で覆われている。印刷版原版10は、感光性組成物からなる感光層14を備える。
front page image
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)