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1. (WO2018179924) 原子層堆積法による酸化イットリウム含有薄膜の製造方法

Pub. No.:    WO/2018/179924    International Application No.:    PCT/JP2018/004849
Publication Date: Fri Oct 05 01:59:59 CEST 2018 International Filing Date: Wed Feb 14 00:59:59 CET 2018
IPC: C23C 16/40
H01L 21/31
H01L 21/316
Applicants: ADEKA CORPORATION
株式会社ADEKA
Inventors: NISHIDA, Akihiro
西田 章浩
YAMASHITA, Atsushi
山下 敦史
Title: 原子層堆積法による酸化イットリウム含有薄膜の製造方法
Abstract:
トリス(第2ブチルシクロペンタジエニル)イットリウムを含む原料ガスを処理雰囲気に導入し、基体上にトリス(第2ブチルシクロペンタジエニル)イットリウムを堆積させる工程と、水蒸気を含む反応性ガスを処理雰囲気に導入し、前記基体上に堆積させたトリス(第2ブチルシクロペンタジエニル)イットリウムと反応させることでイットリウムを酸化する工程とを含む、原子層堆積法による酸化イットリウム含有薄膜の製造方法である。