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1. (WO2018179913) 界面活性剤
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国際公開番号: WO/2018/179913 国際出願番号: PCT/JP2018/004713
国際公開日: 04.10.2018 国際出願日: 09.02.2018
IPC:
C08F 2/24 (2006.01) ,B01F 17/42 (2006.01)
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
2
重合方法
12
非溶媒中における重合
16
水性媒体
22
乳化重合
24
乳化剤を用いるもの
B 処理操作;運輸
01
物理的または化学的方法または装置一般
F
混合,例.溶解,乳化,分散
17
乳化剤,湿潤剤,分散剤または起泡剤としての物質の用途
42
エーテル,例.アルコールまたはフェノールの多価グリコールエーテル
出願人:
第一工業製薬株式会社 DAI-ICHI KOGYO SEIYAKU CO., LTD. [JP/JP]; 京都府京都市下京区西七条東久保町55番地 55, Nishishichijo Higashikubo-cho, Shimogyo-ku, kyoto-shi, Kyoto 6008873, JP
発明者:
小笠原 亜沙子 OGASAWARA Asako; JP
城籔 将虎 JOYABU Masatake; JP
塩原 啓 SHIOHARA Kei; JP
木村 拓郎 KIMURA Takuro; JP
タオ チ TAO Chi; JP
優先権情報:
2017-07240531.03.2017JP
発明の名称: (EN) SURFACTANT
(FR) TENSIOACTIF
(JA) 界面活性剤
要約:
(EN) The present invention improves chemical stability and water resistance of a resin film. The surfactant according to one embodiment of the present invention contains a reactive surfactant represented by general formula (1). In the formula, R1 represents one or two types of radicals selected from the groups described hereinafter; D represents either chemical formula D-1 or chemical formula D-2; R2 represents a hydrogen atom or a methyl group; m1 and m2 represent 1 or 2; A represents an alkylene group having 2-10 carbon atoms; and n is a number of 1-100.
(FR) La présente invention permet d'améliorer la stabilité chimique et la résistance à l'eau d'un film de résine. Le tensioactif selon un mode de réalisation de la présente invention contient un tensioactif réactif représenté par la formule générale (1). Dans la formule, R1 représente un ou deux types de radicaux choisis parmi les groupes décrits ci-après ; D représente la formule chimique D-1 ou la formule chimique D-2 ; R2 représente un atome d'hydrogène ou un groupe méthyle ; m1 et m2 représentent 1 ou 2 ; A représente un groupe alkylène ayant 2 à 10 atomes de carbone ; et n est un nombre de 1 à 100.
(JA) 化学的安定性及び樹脂フィルムの耐水性を向上する。 実施形態に係る界面活性剤は、一般式(1)で表される反応性界面活性剤を含むものである。式中、Rは以下に示す基から選択された1種又は2種の基、Dは化学式D-1又はD-2のいずれか、Rは水素原子又はメチル基、m1及びm2は1~2、Aは炭素数2~10のアルキレン基、nは1~100の数である。
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)