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1. (WO2018179703) マスク、マスクキット、製膜方法および製膜装置
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国際公開番号: WO/2018/179703 国際出願番号: PCT/JP2018/001468
国際公開日: 04.10.2018 国際出願日: 18.01.2018
IPC:
C23C 14/04 (2006.01) ,B32B 3/30 (2006.01) ,B32B 27/00 (2006.01) ,C23C 14/56 (2006.01) ,H05K 3/02 (2006.01)
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
04
選択された表面部分の被覆,例.マスクを用いるもの
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
3
外面または内面にある一つの層が不連続または不均一なもの,または一つの層が平らでない形状のものから本質的になる積層体;本質的に形状に特徴を有する積層体
26
連続層の横断面の特殊形状を特徴とするもの;くぼみまたは内部空隙を有する層を特徴とするもの
30
凹所または突起をもつ,例.みぞを作った,リブをつけた,層を特徴とするもの
B 処理操作;運輸
32
積層体
B
積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
27
本質的に合成樹脂からなる積層体
C 化学;冶金
23
金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C
金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般
14
被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22
被覆の方法に特徴のあるもの
56
連続被覆のために特に適合した装置;真空を維持するための装置,例.真空ロック
H 電気
05
他に分類されない電気技術
K
印刷回路;電気装置の箱体または構造的細部,電気部品の組立体の製造
3
印刷回路を製造するための装置または方法
02
導電性物質が絶縁支持部材の表面に施されその後電流の伝導や遮へいのために使わない部分が表面から取り除かれるもの
出願人:
株式会社カネカ KANEKA CORPORATION [JP/JP]; 大阪府大阪市北区中之島二丁目3番18号 3-18, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308288, JP
発明者:
▲高▼橋 祐司 TAKAHASHI, Yuji; JP
代理人:
新宅 将人 SHINTAKU, Masato; JP
吉本 力 YOSHIMOTO, Tsutomu; JP
優先権情報:
2017-06641829.03.2017JP
発明の名称: (EN) MASK, MASK KIT, FILM FORMING METHOD, AND FILM FORMING DEVICE
(FR) MASQUE, KIT DE MASQUE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM ET DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM
(JA) マスク、マスクキット、製膜方法および製膜装置
要約:
(EN) A mask (100) is provided with a flexible mask base material (30) wherein an opening (11) is provided corresponding to a pattern shape of a thin film to be formed on a substrate (1) on which the film is to be formed. The surface of the mask base material (30) facing the substrate (1) has adhesiveness. An outer peripheral non-adhering region (71) having no adhesiveness for the substrate is provided on surface of the mask base material (30) facing the substrate (1) along the outer peripheral edge of the opening (11). The mask (100) is attached onto the substrate (1), a thin film is formed on the substrate that has been exposed underneath the opening, and then the mask is detached and removed from the surface of the substrate, thereby obtaining a substrate in which the thin film is formed in a prescribed region.
(FR) La présente invention concerne un masque (100) qui est pourvu d’un matériau de base de masque flexible (30), une ouverture (11) étant disposée en correspondance avec une forme de motif d’un film mince devant être formé sur un substrat (1) sur lequel le film doit être formé. La surface du matériau de base de masque (30) faisant face au substrat (1) présente une adhésivité. Une région non adhérente périphérique externe (71) ne présentant pas d’adhésivité pour le substrat est disposée sur la surface du matériau de base de masque (30) faisant face au substrat (1) le long du bord périphérique externe de l’ouverture (11). Le masque (100) est fixé sur le substrat (1), un film mince est formé sur le substrat qui a été exposé au-dessous de l’ouverture, puis le masque est détaché et retiré de la surface du substrat, de façon à obtenir un substrat dans lequel le film mince est formé dans une région prescrite.
(JA) マスク(100)は、被製膜基板(1)上に形成する薄膜のパターン形状に対応した開口(11)が設けられた可撓性のマスク基材(30)を備える。マスク基材(30)は、被製膜基板(1)との対向面が接着性を有している。マスク基材(30)の被製膜基板(1)との対向面には、開口(11)の外周縁に沿って、被製膜基板に対する接着性を有していない外周非接着領域(71)が設けられている。被製膜基板(1)上にマスク(100)を貼着し、開口下に露出した被製膜基板上に薄膜を形成した後、被製膜基板の表面からマスクを剥離除去することにより、所定領域に薄膜が形成された基板が得られる。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)