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1. (WO2018179641) 感光性転写材料、及び回路配線の製造方法
国際事務局に記録されている最新の書誌情報    第三者情報を提供

国際公開番号: WO/2018/179641 国際出願番号: PCT/JP2017/046479
国際公開日: 04.10.2018 国際出願日: 25.12.2017
IPC:
G03F 7/039 (2006.01) ,C08F 12/08 (2006.01) ,C08F 20/16 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01)
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
039
光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
12
ただ1つの炭素-炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,その少なくとも1つが芳香族炭素環によって停止されている化合物の単独重合体または共重合体
02
1個の不飽和脂肪族基を含有する単量体
04
1個の環を含有するもの
06
炭化水素
08
スチレン
C 化学;冶金
08
有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F
炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
20
ただ1つの炭素-炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物,その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの単独重合体または共重合体
02
9個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体
10
エステル
12
一価のアルコールまたはフェノールのエステル
16
フェノールまたは2個以上の炭素原子を含有するアルコールのエステル
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004
感光材料
04
クロム酸塩
G 物理学
03
写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
F
フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7
フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20
露光;そのための装置
出願人: FUJIFILM CORPORATION[JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
発明者: FUJIMOTO, Shinji; JP
MATSUDA, Tomoki; JP
YAMADA, Satoru; JP
代理人: TAIYO, NAKAJIMA & KATO; 3-17, Shinjuku 4-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022, JP
優先権情報:
2017-06804330.03.2017JP
発明の名称: (EN) PHOTOSENSITIVE TRANSFERRING MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING CIRCUIT WIRING
(FR) MATÉRIAU DE TRANSFERT PHOTOSENSIBLE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CÂBLAGE DE CIRCUIT
(JA) 感光性転写材料、及び回路配線の製造方法
要約:
(EN) Disclosed is a photosensitive transferring material comprising: a temporary support; and a photosensitive resin composition layer including a photoacid generator, and a polymer component including a polymer that includes a constituent unit (a-1) including a group wherein a carboxy group is protected in the form of an acetal, or a constituent unit (a-2) including a group in which a phenolic hydroxyl group is protected in the form of an acetal. The polymer component includes a constituent unit (b-1) including a phenolic hydroxyl group and/or a constituent unit (b-2) including an alcoholic hydroxyl group. The total percentage of the constituent unit (b-1) and the constituent unit (b-2) in all of the constituent units in the polymer component is from 1 mol% to 18 mol%. Also disclosed is a method for producing a circuit wiring using the photosensitive transferring material.
(FR) L'invention concerne un matériau de transfert photosensible comprenant : un support temporaire ; et une couche de composition de résine photosensible comprenant un générateur photoacide, et un composant polymère comprenant un polymère qui comprend une unité constitutive (a-1) comprenant un groupe dans lequel un groupe carboxy est protégé sous la forme d'un acétal, ou une unité constitutive (a-2) comprenant un groupe dans lequel un groupe hydroxyle phénolique est protégé sous la forme d'un acétal. Le composant polymère comprend une unité constitutive (b-1) comprenant un groupe hydroxyle phénolique et/ou une unité constitutive (b-2) comprenant un groupe hydroxyle alcoolique. Le pourcentage total de l'unité constitutive (b-1) et de l'unité constitutive (b-2) dans toutes les unités constitutives dans le composant polymère est de 1 % en moles à 18 % en moles. L'invention concerne également un procédé de production d'un câblage de circuit à l'aide du matériau de transfert photosensible.
(JA) 仮支持体;及び、カルボキシ基がアセタールの形で保護された基を有する構成単位(a-1)又はフェノール性水酸基がアセタールの形で保護された基を有する構成単位(a-2)を有する重合体を含む重合体成分と、光酸発生剤とを含有する感光性樹脂組成物層;を有し、重合体成分が、フェノール性水酸基を有する構成単位(b-1)及びアルコール性水酸基を有する構成単位(b-2)の少なくとも一方を有し、重合体成分の全構成単位に占める構成単位(b-1)の割合と構成単位(b-2)の割合との合計が1モル%以上18モル%以下である感光性転写材料、並びに、感光性転写材料を用いた回路配線の製造方法。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
アフリカ広域知的所有権機関(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
ユーラシア特許庁(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧州特許庁(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
アフリカ知的所有権機関(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
国際公開言語: 日本語 (JA)
国際出願言語: 日本語 (JA)